真空期刊
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真空

Vacuum
曾用名: 真空技术报导

CACSTPCD

影响因子 1.1128
本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来,由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会,并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增,在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来,被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位:
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉:
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊  工程技术类核心期刊 
ISSN:
1002-0322
CN:
21-1174/TB
出版周期:
双月刊
邮编:
110042
地址:
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
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  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年2期
    页码:  67
    摘要:
  • 作者: 华中一
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  1-7
    摘要: 纳米技术是二十一世纪最具发展前景的领域。当前,在全球范围内,一个以纳米材料、纳米电子学和纳米医疗为核心的高科技时代已经来临。很多产业都将因纳米技术的发展而得益,如通讯、计算机、医疗、化工、材...
  • 作者: 冯宝奇 尤建国 朱玉斌
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  8-10
    摘要: 从资源、设备、产品及市场等方面简要阐述了我国难熔金属加工业发展的历程、现状及其在真空炉工业中的应用。
  • 作者: 崔红玲 杨邦朝
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  11-15
    摘要: 在信息产业不少基础产品的制造过程中,需使用多种溅射靶材,本文简介溅射靶材的制造及主要应用情况。
  • 作者: 周思平
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  15
    摘要:
  • 作者: 何乐年 徐进 王德苗
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  16-19
    摘要: 在氧气和氩气的混合气体中,在没有额外加热的条件下用反应射频(RF)溅射硅靶制备了非晶氧化硅(a-SiO2)薄膜,并测试分析了薄膜的结构和电特性与O2/Ar流量比的关系。当固定氩气流量,改变氧...
  • 作者:
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  19
    摘要:
  • 作者: 张玉奇 汤玲 陈仲林
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  20-22
    摘要: 影响真空镀膜玻璃外观的关键质量指标是其颜色的均匀性,本文根据实际情况,较详细地论述和探讨了真空镀膜玻璃的色差分析和测定,提出了一种镀膜玻璃色差指标的表征方法。
  • 作者: 马胜歌
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  23-25
    摘要: 利用表面粗糙度仪和分光光度计,设计了一种简便可行的测量透明薄膜折射率的方法。并举例进行了说明。
  • 40. 通知
    作者: 中国真空学会真空获得与测量专委会
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  25
    摘要:
  • 作者: 李春影
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  25
    摘要:
  • 作者: 孙术辉 李全富 李兰民 李学东
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  26-27
    摘要: 叙述了TG-46S型双室双面镀钢板多弧离子镀膜机的主要参数、结构及其特点,并就该机的应用领域及其发展前景进行了探讨。
  • 作者: 任庆利 吴洪才 罗强
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  28-32
    摘要: 超高密度信息存储是信息科学发展的基石,本文综述了超高密度信息存储的材料及技术等方面的目前的研究进展。
  • 作者: 周永安 姜涛 朱武 王云芳 王先路 王娟 程义然 陈长琦
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  33-35
    摘要: 准确测定电工绝缘材料真空干燥过程中的含水量,并实现实时在线控制,在绝缘材料真空干燥工艺中具有重要的实践意义。本文论述了以8031单片机为核心的微机系统对电工绝缘材料真空干燥过程实时在线控制的...
  • 45. 讣告
    作者: 沈阳真空技术研究所
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  35
    摘要:
  • 作者: 孙超 董闯 闻立时 黄美东 黄荣芳
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  36-38
    摘要: 用扫描电子显微镜观察了电弧离子镀中各种不同偏压模式:不加偏压、加不同直流偏压和加幅值相同但占空比不同的脉冲偏压情况下获得的TiN薄膜的表面形貌。结果表明,脉冲偏压可以大大减小膜表面的大颗粒尺...
  • 作者: 张以忱 杨广衍 黄英
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  39-42
    摘要: 治理白色污染对纸浆模塑快餐器具成型设备提出了新的要求。由东北大学开发研制的DZJ-A型纸浆模塑快餐器具生产线是一种新型的节能环保生产装置,它具有工艺先进,生产过程全自动控制的特点。生产线为集...
  • 作者: 真空杂志社
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  42
    摘要:
  • 作者: 何璧生
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  43-45
    摘要: 介绍常用真空泵油的选择考虑和应用实例,供用户、有关厂商和维修人员参考。
  • 作者: 周宝洪
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  46-48
    摘要: 叙述了干式螺杆真空泵的核心零件螺杆的设计与计算,并导出了计算的有关公式,只要将参数代入,即可方便地计算出多规格产品。
  • 51. 书讯
    作者: 真空杂志社
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  48
    摘要:
  • 作者: 王继常
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年3期
    页码:  49-52
    摘要:
  • 作者: 茅昕辉 蔡炳初 陈国平
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年4期
    页码:  1-7
    摘要: 反应磁控溅射被广泛应用于制备化合物薄膜.本文分析了反应磁控溅射中迟滞效应、靶中毒与打火现象,讨论了提高反应磁控溅射沉积速率、抑制靶面打火与保持溅射过程稳定性的途径.在阐述了近年来反应磁控溅射...
  • 作者: 丁基敏
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年4期
    页码:  8-10
    摘要: 电容薄膜式绝对压力变送器从70年代末发展至今,以其优良的性能,逐渐成为低真空测量的主要仪表.随着工艺、技术的不断发展,在原有产品的基础上进一步开发出带恒温系统产品,使仪表的性能更趋完善.为了...
  • 作者: 张通和 杨建华
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年4期
    页码:  11-13
    摘要: 采用由金属蒸汽真空弧离子源(MEVVA)引出的强束流脉冲钨离子对H13钢进行了离子注入表面改性研究.注入剂量为3×1017 cm-2,引出电压为48 kV,平均束流为15 μA*cm-2.利...
  • 作者: 倪翰 凌国伟 萧域星
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年4期
    页码:  14-16
    摘要: 本文介绍了等离子增强磁控溅射沉积技术.有关技术背景、技术发展、技术应用都作了论述.对技术
  • 作者: 曹冠英 杨乃恒 满晓君
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年4期
    页码:  17-20
    摘要: 本文对镀有非对称折射率高低交替膜系的玻璃的颜色特性进行了研究.比较了不同的膜系结构形式,通过改变每层膜的厚度,可得到的不同的色品坐标.发现镀在玻璃上的第一层膜为高折射率材料所得到的玻面颜色好...
  • 作者: 巴德纯 杨乃恒 王庆 王晓冬 陆阳
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年4期
    页码:  21-23
    摘要: 详细讨论一种蒸汽喷射泵的故障诊断专家系统,利用这一专家系统可以判断出故障的种类和原因,并给出解决方案.故障诊断部分包括推理、判断和自学习功能.本系统对蒸汽喷射泵进行在线监测,可极大地提高设备...
  • 作者: 刘绍义 周洪军 徐朝银 王秋平 赵飞云
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年4期
    页码:  24-26
    摘要: 合肥国家同步辐射实验室(NSRL)二期工程建造六套新的前端现已顺利安装完成,经过改进后其功能比前期的前端更加优良.本文围绕如何达到前端所起的作用,系统的介绍了前端的设计要点及其调试安装.
  • 作者: 任高潮 何乐年 王德苗 鲁效
    刊名: 真空
    发表期刊: 2001年4期
    页码:  27-29
    摘要: 本文在介绍SiO2+ITO导电玻璃连续式生产线的系统结构的基础上,给出了该生产线基于PC机的的计算机监控网络系统.该系统为设备提供者、企业管理者、现场操作者提供了一个协调工作的平台.

真空基本信息

刊名 真空 主编 陆国柱
曾用名 真空技术报导
主办单位 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所  主管单位 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1002-0322 CN 21-1174/TB
邮编 110042 电子邮箱 zkzk@chinajournal.net.cn
电话 024-24134406 网址 www.vacjour.cm
地址 辽宁省沈阳市万柳塘路2号

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1. 中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
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