电弧离子镀中不同偏压模式对TiN薄膜形貌的影响

• 作者: 孙超 董闯 闻立时 黄美东 黄荣芳
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀 TiN 脉冲偏压 薄膜形貌
• 年，卷（期）: 2001,（3）
• 所属期刊栏目: 学位论文
• 页码范围: 36-38
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.8|TB43
• 字数: 1332字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2001.03.010

摘要

用扫描电子显微镜观察了电弧离子镀中各种不同偏压模式：不加偏压、加不同直流偏压和加幅值相同但占空比不同的脉冲偏压情况下获得的TiN薄膜的表面形貌。结果表明，脉冲偏压可以大大减小膜表面的大颗粒尺寸和数量，显著改善表面形貌。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董闯		198	2023	23.0	34.0
2	孙超	中国科学院金属研究所	126	1708	23.0	34.0
3	黄荣芳	中国科学院金属研究所	37	704	16.0	25.0
4	闻立时	中国科学院金属研究所	117	1859	24.0	36.0
5	黄美东		6	213	5.0	6.0