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真空
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本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来，由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会，并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增，在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来，被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉：
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
工程技术类核心期刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
出版周期：
双月刊
邮编：
110042
地址：
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31. 动密封在真空锁中的设计与应用刊名： 真空发表期刊： 2005年2期页码:摘要： 详细介绍了在真空锁中的动密封设计过程,并就设计中出现的问题做了分析,提出了解决方案.
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刊名： 真空发表期刊： 2005年2期页码:摘要： 介绍了全超导托卡马克核聚变实验装置(EAST)极向场中心螺管线圈真空压力浸渍(VPI)模具的设计方法,叙述了模具的工作原理,对结构进行强度校核,给出计算结果.
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33. 油扩散泵的维修刊名： 真空发表期刊： 2005年2期页码:摘要： 本文为<实用真空技术>一书的核心章节,作者认真总结了工人师傅的丰富维修经验,理论与实践相结合,对扩散泵的维修技术作了全面、系统、深入细致的论述,对读者有参考价值.
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34. 第十三讲:真空系统的检测技术刊名： 真空发表期刊： 2005年2期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 场致发射显示器(Field Emission Display)继承了传统CRT的优良显示性能,是一种具有广阔应用前景的平板显示器件.本文介绍了FED的发展近况,重点是碳纳米管阴极场致发射显示...
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刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 综述了真空卷绕镀膜技术的现状和发展、真空卷绕镀膜技术的应用领域、现有真空卷绕镀膜设备的应用分类及结构分类、真空卷绕镀膜设备典型的结构组成及设备设计的一些关键要素.
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刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 金刚石薄膜电阻率的高低是薄膜绝缘性能优劣的直观反映,也是影响辐射剂量计器件性能的重要因素.针对目前形核工艺与电阻率的关系还不十分清楚的问题.本文研究了微波等离子体形核阶段工艺参数如基片位置、...
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38. 氟化类金刚石膜结构、性能及应用刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 氟化类金刚石膜是基于传统类金刚石膜的基础上发展起来的一种改性材料,该膜具有许多良好的性能,包括疏水性能、电学性能、光学性能、机械性能、热稳定性以及生物相容性,因此引起了人们的极大关注.本文介...
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39. ZnO薄膜的塞贝克效应刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 采用直流反应磁控溅射方法在玻璃基底上成功地沉积了C轴取向性能良好的ZnO薄膜.本文研究了C轴取向性良好的ZnO薄膜在光学方面的一些性质以及ZnO薄膜的塞贝克效应,并从理论上进行了分析.
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刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 叙述采用等离子体源离子注入法(PSII),对带有SiC涂层的C纤维增强SiC基(SiC-C/SiC)复合材料进行硼离子注入的工艺研究.通过朗缪尔单探针测量了等离子的密度,对注入剂量进行了估算...
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刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 直流平面磁控溅射法是生产ITO玻璃最常用的工艺,但是常规的固定磁控方法只有20%～25%的靶材利用率.为了尽可能提高靶材利用率,我们在原来的固定磁场基础上进行了偏心轴旋转的平面磁场改造,改造...
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42. 动态流导法真空校准装置刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 动态流导法真空校准装置是真空计量的标准,可用于高真空和超高真空规的校准,真空度的校准范围为10-1～5×10-7 Pa,合成标准不确定度为0.69%～1.4%.
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刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 研究超高真空材料的升温脱附谱对于获得超高真空、提高极限真空度和指导真空系统的烘烤除气有重要的意义.作者设计并加工了研究超高真空升温脱附谱的实验设备,并用此设备测量了真空系统结构材料不锈钢、无...
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44. 镍基高温合金脱氧的研究刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 氧在高温合金中是作为有害杂质元素存在的,通常是疲劳裂纹的萌生地及扩展通道,从而影响高温合金的蠕变、持久强度等性能.本研究在现有条件下,确定了氧在镍基高温合金中存在主要形态为氧化铝夹杂,根据得...
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刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 结合在NSRL同步辐射光束线和实验站的实际工作,对新设计的超高真空高精度同轴旋转平移差分馈入系统的密封型式和结构进行了描述,本系统可以完成超高真空条件下的高精度旋转平移轴系的馈入,已在NSR...
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刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 本文解决了KZ-400离子束刻蚀装置设计中遇到的若干真空问题.通过抽速计算选择了合理的真空配置;用有限元分析软件ANSYS计算了真空室的受压形变,优化了真空室的结构,采取了合理的误差补偿措施...
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刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 根据实际生产分析了纸浆模塑制品生产工艺过程影响纸浆模塑产品质量问题产生的原因,并总结出解决这些问题的方法,对实际生产具有指导意义.
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刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 应用实验和蒙特卡罗(DSMC)方法,研究了Crookes 辐射计工作的最佳真空条件.在辐射计内转子可以自由转动的条件下,测量了辐射计转子的转速与腔内真空度的关系,实验表明,转子的转速与腔内的...
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刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要：
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50. 真空与环保刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 大力发展环保产业,有助于推进我国可持续发展战略的实施,具有重大的社会效益和经济效益.真空技术可广泛应用于环保领域,在固体废弃物、污水以及废气处理的许多方面和重要环节中,都大量地运用到真空工艺...
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51. 油扩散泵的维修刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要： 本文为<实用真空技术>一书的核心章节,作者认真总结了工人师傅的丰富维修经验,理论与实践相结合,对扩散泵的维修技术作了全面、系统、深入细致的论述,对读者有参考价值.
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52. 第十三讲:真空系统的检测技术刊名： 真空发表期刊： 2005年3期页码:摘要：
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53. 碳纳米管场发射电子源刊名： 真空发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 从实验和理论上研究单根碳纳米管(CNT)场发射电子源的稳定问题.利用透射电镜/扫描探针显微镜(TEM/SPM)和场发射显微镜/场离子显微镜(FEM/FIM)对CNTs的场发射特性进行了实验研...
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刊名： 真空发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 以氧氯化锆和硝酸锰为主要原料,采用Sol-Gel-VFD技术制备了MnOx/ZrO2超细粉体材料.用XRD,TG-DSC,TEM和BET等技术对试样进行了表征,用微反应器-气相色谱仪在线研究...
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刊名： 真空发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 采用封闭式电子回旋共振(MCECR)等离子体溅射的方法在硅(100)基片上沉积了高质量的硬碳纳米微晶薄膜,膜层厚度约40 nm,采用氩等离子体溅射碳靶.薄膜的键结构采用X射线光电子能谱仪(X...
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刊名： 真空发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 采用对向孪生靶溅射ZnO∶Al(ZAO)薄膜可减少等离子体对基底薄膜轰击损伤,沉积速率与结晶程度高;不同气压溅射的ZAO薄膜,其透光率在波长小于700 nm时基本相同,在可见光范围内(400...
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刊名： 真空发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 利用脉冲真空电弧离子镀技术在3Cr13不锈钢上制备了类金刚石(DLC)薄膜,通过Raman光谱分析了膜的结构特征,采用摩擦磨损试验机测试了薄膜在不同载荷下的摩擦系数,运用划痕仪研究了膜基的结...
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刊名： 真空发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 介绍了卷绕镀膜生产线中镀膜工艺的透过率在线监控仪原理与实现方法,同时描述了透过率监控仪在低辐射卷绕镀膜中的应用.
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59. 纳米多层膜的电性能及表面形貌刊名： 真空发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 用热蒸发沉积和自然氧化法制备纳米量级的Al/Al2O3及Cr/Cr2O3薄膜和多层膜.本文采用三点法测定了常温、低温下的U- I特性,发现常温、低温下纳米量级的Al/Al2O3及Cr/Cr2...
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刊名： 真空发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 利用X射线衍射分析技术结合差示扫描量热仪,研究了Zr在Co-Si合金非晶薄膜晶化和相变过程中的作用.结果表明:溅射态非晶Co-Si薄膜和Co-Si-Zr薄膜在加热到950℃的过程中,均主要析...
真空基本信息
| 刊名 | 真空 | 主编 | 陆国柱 |
| 曾用名 | 真空技术报导 | ||
| 主办单位 | 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 | 主管单位 | 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1002-0322 | CN | 21-1174/TB |
| 邮编 | 110042 | 电子邮箱 | zkzk@chinajournal.net.cn |
| 电话 | 024-24134406 | 网址 | www.vacjour.cm |
| 地址 | 辽宁省沈阳市万柳塘路2号 |
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