偏心旋转移动平面磁控溅射在ITO玻璃生产中的应用与探讨

• 作者: 王朴 黄福民
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 利用率 ITO
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 27-29
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 字数: 2098字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2005.03.007

摘要

直流平面磁控溅射法是生产ITO玻璃最常用的工艺,但是常规的固定磁控方法只有20%～25%的靶材利用率.为了尽可能提高靶材利用率,我们在原来的固定磁场基础上进行了偏心轴旋转的平面磁场改造,改造后的靶材利用率达到了60%～70%,经过两年多的运行,证明改造是相当成功的.本文阐述了偏心旋转移动平面磁控的具体方法及应该注意的几个问题.