采用磁控管方式溅射的电子回旋共振等离子体沉积技术的研究

• 作者: 任兆杏 喻宪辉 汪建华 袁润章 邬钦崇
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控管方式 溅射 ECR等离子体 ZnO薄膜
• 年，卷（期）: 1999,（2）
• 所属期刊栏目: 器件研究与制造
• 页码范围: 16-19
• 页数: 4页
• 分类号: TN3
• 字数: 1762字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.1999.02.005

摘要

将磁控管方式溅射用于微波ECR等离子体沉积技术.在低气压和低温下沉积了高度C轴取向的ZnO薄膜,其膜的沉积速率比普通ECR溅射中所得到的速率大得多,并且在Φ12cm的膜区域内显示出良好的均匀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任兆杏	中科院等离子体物理研究所	3	9	2.0	3.0
2	邬钦崇	中科院等离子体物理研究所	2	3	1.0	1.0
3	喻宪辉		1	3	1.0	1.0