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摘要:
用MOCVD方法生长了InGaAs/InGaAsP多量子阱微碟激光器外延片,用光刻、干法刻蚀和湿法刻蚀等现代化的微加工技术制备出直径9.5μm的InGaAs/InGaAsP微碟激光器,并详细介绍了整个制备工艺过程.在液氮温度下用氩离子激光器泵浦方式实现了低阈值光泵激射,测出单个微碟激光器的阈值光功率为150μW,激射波长约为1.6μm,品质因数Q=800,激射光谱线宽为2nm,同时指出微碟激光器激射线宽比F-P普通激光器宽很多是由于其品质因数很高造成的.
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γ射线
辐射效应
MOCVD生长AlGaInAs/InP多量子阱激光器
激光器
量子阱
金属有机物化学气相沉淀
应变补偿
AlGaInAs/InP
共面电极
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 MOCVD生长InGaAs/InGaAsP多量子阱光泵微碟激光器
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 微碟激光器 干法刻蚀 光泵浦 湿法刻蚀 品质因数
年,卷(期) 2001,(8) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 1057-1062
页数 6页 分类号 TN248.4
字数 3973字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2001.08.022
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 任大翠 5 12 2.0 3.0
2 吴根柱 3 10 2.0 3.0
3 张子莹 1 6 1.0 1.0
4 张兴德 3 9 2.0 3.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
微碟激光器
干法刻蚀
光泵浦
湿法刻蚀
品质因数
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
6983
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8
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35317
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