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MOCVD生长InGaAs/InGaAsP多量子阱光泵微碟激光器
MOCVD生长InGaAs/InGaAsP多量子阱光泵微碟激光器
作者:
任大翠
吴根柱
张兴德
张子莹
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
微碟激光器
干法刻蚀
光泵浦
湿法刻蚀
品质因数
摘要:
用MOCVD方法生长了InGaAs/InGaAsP多量子阱微碟激光器外延片,用光刻、干法刻蚀和湿法刻蚀等现代化的微加工技术制备出直径9.5μm的InGaAs/InGaAsP微碟激光器,并详细介绍了整个制备工艺过程.在液氮温度下用氩离子激光器泵浦方式实现了低阈值光泵激射,测出单个微碟激光器的阈值光功率为150μW,激射波长约为1.6μm,品质因数Q=800,激射光谱线宽为2nm,同时指出微碟激光器激射线宽比F-P普通激光器宽很多是由于其品质因数很高造成的.
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文献信息
篇名
MOCVD生长InGaAs/InGaAsP多量子阱光泵微碟激光器
来源期刊
半导体学报
学科
工学
关键词
微碟激光器
干法刻蚀
光泵浦
湿法刻蚀
品质因数
年,卷(期)
2001,(8)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
1057-1062
页数
6页
分类号
TN248.4
字数
3973字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:0253-4177.2001.08.022
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
任大翠
5
12
2.0
3.0
2
吴根柱
3
10
2.0
3.0
3
张子莹
1
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研究主题发展历程
节点文献
微碟激光器
干法刻蚀
光泵浦
湿法刻蚀
品质因数
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体学报(英文版)
主办单位:
中国电子学会和中国科学院半导体研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1674-4926
CN:
11-5781/TN
开本:
大16开
出版地:
北京912信箱
邮发代号:
2-184
创刊时间:
1980
语种:
eng
出版文献量(篇)
6983
总下载数(次)
8
总被引数(次)
35317
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