接近式深度光刻机掩模-硅片间的衍射研究

• 作者: 余国彬 姚汉民 胡松
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 微型机电系统 接近式深度光刻机 菲涅尔衍射
• 年，卷（期）: 2001,（1）
• 所属期刊栏目: 论文·研制报告
• 页码范围: 23-26
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1460字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-4507.2001.01.004

摘要

近年来，微型机电系统技术高速发展，对作为其基础技术的微细加工设备的需求也越来越大。重点讨论接近式深度光刻机的掩摸和硅片间的衍射，其中对掩模与硅片间的夫琅和费衍射和菲涅尔衍射进行了区别，并提出了接近深度光刻机掩模-硅片间的衍射应属于菲涅尔衍射，同时具体分析单缝型掩模的菲涅尔衍射公式。对深入理解和认识接近式深度光刻机的掩模-硅片间衍射的物理本质提供了更为方便的研究手段。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡松	中国科学院光电技术研究所	93	705	12.0	24.0
2	姚汉民	中国科学院光电技术研究所	44	355	9.0	16.0
3	余国彬	中国科学院光电技术研究所	22	129	7.0	10.0