中频双靶反应磁控溅射制备TiO2膜的一些探索

• 作者: 刘翔宇 杨美芹 查良镇 范垂祯 许生 赵来 陈旭 高文波
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 反射型液晶显示器 中频双靶反应磁控溅射 TiO2膜
• 年，卷（期）: 2003,（1）
• 所属期刊栏目: 前沿探索
• 页码范围: 17-20
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2882字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2003.01.003

摘要

具有高折射率的TiO2膜在反射型液晶显示器的关键部件高反射率背板膜系的制备中起重要作用.本文使用国内首家在线中频双靶反应磁控溅射设备进行了制备TiO2膜的探索,完成了相应的膜层测试与分析.实验结果表明双靶磁控反应溅射可以制备高折射率的TiO2膜,实验还从折射率的角度证明中频双靶反应溅射与直流反应溅射的效果一致,为进一步提高膜层沉积速率以适应工业生产需求需要引入更有效的溅射过程控制手段.