标准CMOS工艺在高速模拟电路和数模混合电路中的应用展望

• 作者: 何山虎 崔增文 毛陆虹 陈弘达 高建玉
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: CMOS工艺 特征频率fT 单片系统SoC 短距离并行光传输系统VSR 多项目晶圆MPW
• 年，卷（期）: 2003,（4）
• 所属期刊栏目: 趋势与展望
• 页码范围: 30-32,41
• 页数: 4页
• 分类号: TN432
• 字数: 3851字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2003.04.019

摘要

从速度、集成度、功耗和成本等几个方面深入的分析了利用标准CMOS工艺来设计开发高速模拟器件和混合处理芯片的现状及发展潜力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈弘达	中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室	82	341	10.0	13.0
2	何山虎	兰州大学微电子研究所	7	77	5.0	7.0
3	毛陆虹	中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室	4	31	3.0	4.0
4	崔增文	兰州大学微电子研究所	1	9	1.0	1.0
5	高建玉	兰州大学微电子研究所	1	9	1.0	1.0