化学机械抛光设备与市场

• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 关键词: CMP设备 技术性能 设备市场
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 专题报道
• 页码范围: 10-12,25
• 页数: 4页
• 字数: 2575字
• 语种: 中文

摘要

介绍了目前国外对应于90～65 nm CMP设备开发现状及各公司的设备特点,给出了各公司代表性产品的技术性能和全球CMP设备市场概况.