大平面玻璃基片磁控溅射真空镀膜简介(二)

• 作者: 张永胜 柳俊文 龚建华
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射镀膜 玻璃基片
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 6184字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2006.03.001

摘要

近年来,各种工业生产规模的玻璃基片大平面磁控溅射生产线发展迅速,令人关注.本文针对这一领域,就主要膜系开发、设备结构、工艺、存在的问题及最新发展做了简单的归纳和介绍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龚建华		9	59	5.0	7.0
2	张永胜		5	41	4.0	5.0
3	柳俊文		2	14	2.0	2.0