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摘要:
报道了一种自对准InP/InGaAs 双异质结双极晶体管的器件性能.成功制作了U型发射极尺寸为2μm×12μm的器件,其峰值共射直流增益超过300,残余电压约为0.16V,膝点电压仅为0.6V,而击穿电压约为6V.器件的截至频率达到80GHz,最大震荡频率为40GHz.这些特性使此类器件更适合于低压、低功耗及高频方面的应用.
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文献信息
篇名 MBE生长的InP DHBT的性能
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 MBE Be掺杂InGaAs基区 磷化铟 双异质结双极晶体管
年,卷(期) 2006,(5) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 792-795
页数 4页 分类号 TN322+.8
字数 1898字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2006.05.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘新宇 中国科学院微电子研究所 141 717 13.0 18.0
2 齐鸣 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 34 145 8.0 9.0
3 徐安怀 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 20 94 7.0 8.0
4 刘训春 中国科学院微电子研究所 43 222 9.0 11.0
5 王润梅 中国科学院微电子研究所 15 78 6.0 8.0
6 于进勇 中国科学院微电子研究所 9 91 8.0 9.0
7 苏树兵 中国科学院微电子研究所 6 59 5.0 6.0
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研究主题发展历程
节点文献
MBE
Be掺杂InGaAs基区
磷化铟
双异质结双极晶体管
研究起点
研究来源
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
出版文献量(篇)
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