弯曲形FeSiB/Cu/FeSiB多层膜的应力阻抗效应

• 作者: 丁文 周勇 曹莹 茅昕辉 陈吉安
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 无机非金属材料 应力阻抗 FeSiB/Cu/FeSiB多层膜 磁控溅射 弯曲形
• 年，卷（期）: 2006,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 5-7
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4+3
• 字数: 2796字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2006.01.003

摘要

用磁控溅射法制备弯曲形FeSiB/Cu/FeSiB多层膜,在1～40 MHz范围内研究FeSiB膜和Cu膜厚度对多层膜结构应力阻抗效应的影响.结果表明:多层膜的应力阻抗效应随着其形变位移的增加近似线性增加,在自由端变形1 mm、电流频率5 MHz时,应力阻抗效应达-17.3%,在新型力敏传感器方面具有广阔的应用前景.