精缩机制版阵列插图研究

• 作者: 任芳 何敏 刘嵘侃 崔伟
• 来源期刊: 微电子学
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体工艺 制版 精缩机 阵列插图
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 技术报告
• 页码范围: 298-301
• 页数: 4页
• 分类号: TN307
• 字数: 2688字
• 语种: 中文

摘要

介绍了利用3696精缩机进行制版阵列插图的研究工作,总结了插图工艺制作的基本方法、常见问题及解决办法.通过具体应用实例,对多种形式的阵列插图制作进行了有益的探讨,对光掩模版的制造具有一定的指导意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔伟	中国电子科技集团公司第二十四研究所	9	17	3.0	3.0
2	任芳	中国电子科技集团公司第二十四研究所	4	4	1.0	2.0
3	刘嵘侃	中国电子科技集团公司第二十四研究所	7	21	2.0	4.0
4	何敏	中国电子科技集团公司第二十四研究所	2	1	1.0	1.0