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摘要:
随着PCB的轻、薄、小及高密互连的发展趋势,电镀铜填孔工艺已得到了广泛的应用,本文根据过程监控切片图,简述填孔电镀作用机理,分别介绍了CEAC、CDA电镀铜填孔机理和孔壁铜完整性对电镀铜填孔的影响,以期加深广大PCB业者对盲孔电镀铜填孔工艺的了解。
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MPS和氯离子在电镀铜盲孔填充工艺中的作用机理
MPS
氯离子
电镀
盲孔
作用机理
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 图解电镀铜填孔机理
来源期刊 印制电路信息 学科 工学
关键词 填孔 CEAC CDA
年,卷(期) 2011,(9) 所属期刊栏目 孔化与电镀
研究方向 页码范围 11-13,20
页数 分类号 TN41
字数 2176字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1009-0096.2011.09.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杨智勤 1 9 1.0 1.0
2 张曦 1 9 1.0 1.0
3 陆然 1 9 1.0 1.0
4 韩卓江 1 9 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
填孔
CEAC
CDA
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
印制电路信息
月刊
1009-0096
31-1791/TN
大16开
上海市闽行区都会路2338号95号楼CPCA大厦2楼
1993
chi
出版文献量(篇)
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10164
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