直拉重掺硼硅单晶的碱腐蚀特性研究

• 作者: 于妍 刘锋 吕菲 杨洪星 耿博耘
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 重掺硼硅单晶 腐蚀速率 表面均匀性
• 年，卷（期）: 2013,（9）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 5-7,13
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.05
• 字数: 2814字
• 语种: 中文

摘要

直拉重掺硅硼单晶作为重要的外延衬底材料,具有其优越的特性.由于其硬度大,杂质含量高,在抛光片的加工过程中表现出腐蚀速率慢、表面均匀性差等特点,不利于硅片腐蚀减薄和抛光清洗等.研究了直拉重掺硅硼单晶的碱性腐蚀速率随腐蚀液温度和浓度变化趋势,从直拉重掺硅硼单晶化学反应的微观角度解释了这种变化规律,在此基础上,研究了不同的添加剂对腐蚀速率和表面均匀性的影响,从理论和实验两方面证实了,在腐蚀液中加入碱性氧化剂有利于腐蚀速率的提高,并能有效改善硅片的表面均匀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕菲	中国电子科技集团公司第四十六研究所	24	88	6.0	8.0
2	于妍	中国电子科技集团公司第四十六研究所	8	39	3.0	6.0
3	刘锋	中国电子科技集团公司第四十六研究所	15	20	3.0	3.0
4	杨洪星	中国电子科技集团公司第四十六研究所	50	145	6.0	8.0
5	耿博耘	中国电子科技集团公司第四十六研究所	7	14	2.0	3.0