Si1-xGex单晶用热系统改进

• 作者: 刘锋 韩焕鹏
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 数值模拟 Si1-xGex单晶 热屏 氩气流场
• 年，卷（期）: 2013,（9）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 1-4,38
• 页数: 5页
• 分类号: TN304.9
• 字数: 2842字
• 语种: 中文

摘要

阐述了对原GaAs单晶拉制用LEC单晶炉热系统进行改造使其适于Si1-xGex单晶生长的过程.借助数值模拟的方法分析了晶体生长区域内的温度分布情况,并通过分析发现了原有热系统的不足.重新对原热系统进行了改造,添加了起到保温和氩气导流作用的热屏和上保温装置,使原来的敞开式热场变为密闭式热场,满足了Si1-xGex单晶拉制的要求.通过具体实验和数值模拟结合,分析了氩气流场及不同流场对晶体生长的影响,发现并改进了单晶炉的氩气供给装置存在的问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩焕鹏	中国电子科技集团公司第四十六研究所	28	43	4.0	5.0
2	刘锋	中国电子科技集团公司第四十六研究所	15	20	3.0	3.0