衬底温度对CuAlO2薄膜的结构与光学性能的影响

• 作者: 徐继承 杨元政 谢致薇
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: CuAlO2薄膜 磁控溅射 衬底温度 透光性 禁带宽度 表面形貌
• 年，卷（期）: 2016,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 42-45
• 页数: 4页
• 分类号: TN304
• 字数: 3193字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14106/j.cnki.1001-2028.2016.07.010

摘要

通过磁控溅射的方法，在不同温度的石英衬底上制备了 CuAlO2薄膜，研究经过退火处理后， CuAlO2薄膜的表面形貌、物相结构以及光学性能。实验结果表明：随着衬底温度的增加，薄膜的晶粒逐渐形成和长大，表面组织越来越均匀致密，透光性也随之增强。通过综合比较，可发现：当衬底温度为400℃时，薄膜的整体性能达到最优，XRD谱中的(101)衍射峰最强，晶粒大小均匀，可见光透射率为76.6%，光学带隙宽度为3.69 eV。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢致薇	广东工业大学材料与能源学院	85	436	12.0	15.0
2	杨元政	广东工业大学材料与能源学院	123	648	13.0	20.0
3	徐继承	广东工业大学材料与能源学院	2	1	1.0	1.0