光刻机光强影响因素分析

• 作者: 孙明睿 李雪 甄万财
• 来源期刊: 电子工业专用设备
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻机 曝光系统 曝光强度
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 半导体制造工艺与设备
• 页码范围: 18-21
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2564字
• 语种: 中文

摘要

曝光系统是接触接近式光刻机的核心部件,系统的曝光强度对光刻工艺有很大的影响.通过对曝光光路系统进行详细分析,对影响光强的各种因素进行了论述和计算,为进一步改善曝光系统光强指明了方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李雪	中国电子科技集团公司第四十五研究所	9	16	3.0	3.0
2	孙明睿	中国电子科技集团公司第四十五研究所	4	6	1.0	2.0
3	甄万财	中国电子科技集团公司第四十五研究所	3	1	1.0	1.0