多模式输出磁控溅射镀膜电源技术研究

• 作者: 胡波 陈文光 饶益花
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 多模式 磁控溅射 镀膜 电源
• 年，卷（期）: 2017,（1）
• 所属期刊栏目: 测量与控制
• 页码范围: 17-21
• 页数: 5页
• 分类号: TN86
• 字数: 3330字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2017.01.05

摘要

磁控溅射电源在镀膜领域有着广泛的应用.设计研制一种新拓扑结构的多模式输出镀膜电源,将高频PWM整流技术、全桥变换器与直流降压电路相结合;通过合理的时序控制实现直流溅射、单向脉冲、双向对称和双向不对称等四种溅射模式;运用DSP数字控制器灵活实现对高频PWM整流器输出幅值、工作模式,以及溅射脉冲宽度、频率的设置.实验样机证明,本设计能实现多模式输出,输出幅值范围为200V-750V,频率最大为200kHz,占空比10％-90％可调,功率因数不低于0.97.该技术将多个镀膜功能集成到同一个设备中,设备体积小、降低成本、提高了利用率,谐波污染低,具有很好的推广应用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈文光	南华大学电气工程学院	66	288	10.0	14.0
2	饶益花	南华大学数理学院	37	153	7.0	10.0
3	胡波	南华大学电气工程学院	20	66	4.0	7.0