环境因素对锗单晶抛光片表面质量的影响

• 作者: 杨洪星 杨静 王雄龙 索开南 陈晨
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: Ge 抛光片 净化等级 化学气氛 表面质量
• 年，卷（期）: 2020,（11）
• 所属期刊栏目: 半导体材料
• 页码范围: 880-885
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.11|TN305.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2020.11.010

摘要

由于Ge材料具有较为活泼的化学性质,易与环境中的氧化剂发生化学反应,使Ge单晶抛光片表面质量因表面化学组成的变化而出现恶化,降低交付可靠性.通过实验验证了在氧化性氛围中,Ge单晶抛光片表面易产生雾,且随着时间延长而逐渐增多,直至表面完全被覆盖.从反应机理分析了Ge单晶抛光片表面可能发生的化学反应.通过X射线光电子能谱(XPS)验证了Ge单晶抛光片表面的价态发生了变化,发现Ge单晶抛光片表面发生了氧化反应.从环境因素入手,分析了净化等级和化学氛围对Ge单晶抛光片表面质量的影响,确定了Ge单晶抛光片的存放环境,保证了Ge单晶抛光片的交付可靠性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨静		28	39	4.0	5.0
2	杨洪星		50	145	6.0	8.0
3	索开南		17	27	3.0	4.0
4	王雄龙		9	3	1.0	1.0
5	陈晨		9	3	1.0	1.0