半导体技术期刊
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半导体技术

Semiconductor Technology

CAJSTAJSACSTPCD

影响因子 0.3579
《半导体技术》是由信息产业部主管,中国半导体行业协会、半导体专业情报网、中电科技集团公司十三所主办,业内权威的国家一级刊物之一。1976年创刊,它以严谨风格,权威著述,在业内深孚众望,享誉中外,对我国半导体事业的发展发挥了积极作用。“向读者提供更好资讯,为客户开拓更大市场”,是《半导体技术》的追求,本刊一如既往地坚持客户至上,服务第一,竭诚向读者提供多元化的信息。 《半导体技术》是中文核心... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
中国学术期刊光盘版《CAJ-CD》执行优秀期刊奖(03)  中国科技论文统计用刊  中文核心期刊 
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄179信箱46分箱
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5044
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  • 作者: 严贤雍 翟爱平 石林林 王文艳 冯琳 李国辉 郝玉英 崔艳霞
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  581-590,616
    摘要: 近年来,二氧化钛、氧化锌等半导体材料被广泛应用于光解水研究中.金属纳米结构激发的表面等离激元(SPP)热载流子效应能够有效地俘获入射光,进一步增强光能与化学能之间的转换效率,是提高半导体光解...
  • 作者: 蒲恩强 方倪 沈凡 高超嵩 孙向明 刘军 赵聪 陈强军
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  591-598
    摘要: 设计了一款基于GSMC 130 nm CMOS工艺的像素级开关电容阵列(SCA)波形采样芯片.该芯片由32×32像素阵列和读写控制电路组成,每个像素集成了裸露的顶层金属、pn结和32×32 ...
  • 作者: 刘如青 刘帅 高学邦 付兴中
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  599-603,634
    摘要: 以50 μm厚的SiC为衬底,基于T型栅GaN HEMT工艺技术,设计并制作了一款V波段GaN功率放大器单片微波集成电路(MMIC).该功率放大器MMIC电路采用三级放大拓扑结构进行设计;采...
  • 作者: 万书芹 陈婷婷 陶建中 蒋颖丹 朱夏冰
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  604-610,622
    摘要: 提出了一种高速低延时8 bit/10 bit解码电路结构,采用四路并行通道同时处理输入数据,每一路具有K码检测、输入数据查错功能,能够在输入四路10 bit数据后的一个时钟周期内正确完成解码...
  • 作者: 王占奎 方修成 刘兰坤
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  611-616
    摘要: 介绍了一种基于反熔丝的抗辐照精密校频专用集成电路(ASIC)设计方案,可应用于频率控制系统,实现精密的频率调节.该ASIC以反熔丝可编程数字电压阵列为核心,集成数字通信协议接口、一次性可编程...
  • 作者: 王国庆 张晋敏 吴次南 谢泉 刘凡宇 李博 杨静琦
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  617-622
    摘要: 研究了一种新型双埋氧绝缘体上硅(DSOI)NMOSFET的自热效应(SHE).通过实验测试并结合计算机数值模拟分析了SHE对DSOI NMOSFET输出特性的影响.仿真结果显示DSOI NM...
  • 作者: 赵媛媛 郑英奎 康玄武 孙跃 吴昊 魏珂 刘新宇
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  623-629,644
    摘要: 为了研究离子注入边缘终端对准垂直GaN肖特基势垒二极管性能的影响,对器件进行了二维模拟仿真,分析了终端区域尺寸对肖特基结边缘处峰值电场及正向特性的影响,得到了宽度5μm、厚度200 nm的最...
  • 作者: 王强 李丽 张仕强
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  630-634
    摘要: 采用阶梯型结构的薄膜体声波谐振器(FBAR)滤波器芯片和外匹配电路实现了一种输入输出端口阻抗均为50 Ω的宽带FBAR滤波器.FBAR滤波器芯片采用自主的FBAR滤波器工艺实现,外匹配电路采...
  • 作者: 李珣 朱松冉 姜霞
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  635-639,644
    摘要: 4H-SiC外延薄膜是加工高频、大功率电子电力器件的理想半导体材料,而使用不同斜切角的衬底进行外延生长的工艺不同.在1.2°小切角的4H-SiC离轴衬底上采用化学气相沉积(CVD)法生长同质...
  • 作者: 张化福 景强 孙艳
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  640-644
    摘要: 利用磁控溅射技术在玻璃衬底上制备了不同厚度的二氧化钒(VO2)薄膜.实验结果表明,所制备的VO2薄膜都具有显著的热色性能.厚度较大的薄膜在低温时具有较高的透过率,而在高温时具有较低的透过率....
  • 作者: 康杰 丁紫阳 孙为云 焦璨 王晓燕 宋月鹏
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  645-649,657
    摘要: 采用可控化学腐蚀法制备SiC量子点,在原有腐蚀剂(氢氟酸和硝酸)的基础上添加适量的分析纯硫酸,一步法完成SiC量子点的表面修饰.采用光度计和Lince软件测量并计算了平均粒径5 nm的SiC...
  • 作者: 关潇男 谢志辉 南刚 冯辉君 戈延林
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  650-657
    摘要: 建立了3D堆叠芯片硅通孔(TSV)单元体模型,在单元体总体积和TSV体积占比给定时,考虑电-热-力耦合效应,以最高温度、(火积)耗散率、最大应力和最大形变为性能指标,对TSV横截面长宽比和单...
  • 作者: 姜剑 孙聂枫 孙同年 王书杰 邵会民 刘惠生
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2021年8期
    页码:  658-662
    摘要: 为改善InP籽晶表面洁净度,保证InP材料生长时的电学参数并减小引晶阶段孪晶形成概率,设计了InP籽晶表面处理装置.该装置采用动态方式对籽晶表面进行处理,采用原子力显微镜扫描处理后籽晶的表面...

半导体技术基本信息

刊名 半导体技术 主编 赵小宁
曾用名
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共和国工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1003-353X CN 13-1109/TN
邮编 050002 电子邮箱 bdtj1339@163.com
电话 0311-87091339 网址
地址 石家庄179信箱46分箱

半导体技术评价信息

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