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人工晶体学报
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本刊报道我国在半导体材料、光电子材料、纳米材料、薄膜材料和超硬材料等领域在理论研究、生长技术、性能、品质鉴定、原料制备，以及应用技术和加工等方面的科研成果，同时介绍国内外晶体材料的发展动态与学术交流活动。学报是我国从事人工晶体研究人员与国外同行交流的一个重要窗口。
主办单位：
中材人工晶体研究院有限公司
期刊荣誉：
1987年获优秀编辑二等奖
1989年获优秀期刊奖
1997年获全国第二届优秀科技期刊奖
ISSN：
1000-985X
CN：
11-2637/O7
出版周期：
月刊
邮编：
100018
地址：
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 本文为"碳酸钙形成过程中重金属离子的配分问题研究"的第二部分.上文介绍了配分问题的理论基础、实验方法和重金属离子的配分特征.本文则介绍配分问题的理论机制.作者综述了有关重金属离子在方解石晶面...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 本文报道用 RF PECVD在低温衬底上制备了类金刚石碳(DLC)膜.研究了氢稀释、气体压力和 RF 功率对薄膜性质的影响. 用光透射率、红外吸收谱和小角度X射线衍射谱分析了DLC膜的结构和...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 用电子回旋共振等离子体化学汽相沉积(ECR CVD)法, 在单晶硅(100)衬底上沉积生长出了具有{221}结构特性的连续的结晶态β-C3N4薄膜.使用扫描电镜(SEM)观测了沉积薄膜的形态...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 采用微波等离子增强化学气相沉积法在(100)镜面抛光的硅片衬底上实现了金刚石薄片[100]定向织构生长.并用扫描电子显微镜、拉曼散射和傅立叶红外光谱仪分析测试了不同工艺得到的金刚石薄片的表面...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)在硅片和铂基片上生长了氮化碳薄膜.扫描电镜(SEM)观察显示,在硅片上形成了多晶的膜;EDX能谱分析表明膜中的碳氮比在1.0～2.0之间;X射线衍射...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 采用磁过滤真空溅射离子沉积技术,用氩气和氮气共溅射石墨靶,在不同氮气分压下,制备了一组不同氮含量的四配位非晶碳薄膜(ta-C:N).用X射线光电子能谱确定ta-C:N薄膜中的氮含量;研究了氮...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 采用石墨靶,通过脉冲激光沉积技术在温度为20℃的玻璃和硅衬底上沉积出厚度为100nm的碳薄膜,所用的激光源是ArF激光(λ＝193nm, 24ns). 通过调节氢气流量使反应室的压力在1.3...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 用电子回旋共振等离子体增强的化学汽相沉积法, 在单晶硅衬底上外延生长出了近于100μm2的单晶金刚石薄膜.使用的原料气体是高纯的氢气和甲烷,生长前没有对衬底做划痕和研磨等预处理.生长中是把衬...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 采用等离子增强化学气相法(PECVD)在碲镉汞(MCT)衬底上沉积出纳米团聚的类金刚石薄膜(DLC).用原子力显微镜(AFM )和侧向力显微镜(LFM)对DLC和MCT表面形貌进行表征;用俄...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 用苯作源气体在一个微波电子回旋共振等离子体系统中沉积了含氢非晶碳薄膜,研究了沉积参数对膜的生长速率的影响.为了探索该种薄膜在干刻蚀工艺过程中用作掩膜的可能性,还研究了它在氧等离子体中的刻蚀性...
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11. 平面SiC薄膜场致发射的机理研究刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 碳化硅在场致发射( EE)应用中除了具有金刚石的一般优点之外,还具有易于n型或者p型掺杂的特性.本文用APCVD方法研制了一种SiC薄膜.在FEE测试中发现,其开启场强低达0.3 MV/m....
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 本文探讨了在HFCVD(hot filament chemical vapor deposition)沉积金刚石薄膜中热丝数量、位置等几何参数对温度场和辐射场的影响.利用系统热传递模型和计算...
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13. 热丝辅助射频CVD C3N4薄膜刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积(CVD)方法直接在Si(100)衬底上制备了多晶C3N4薄膜.X射线衍射(XRD)测试表明薄膜同时含有α-C3N4和β-C3N4晶相以及未知结构.傅...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 探明成核与生长的机理对于沉积高质量金刚石薄膜是十分重要的.本文采用PM3方法,计算了化学汽相沉积金刚石薄膜成核与生长阶段反应势垒.研究了对于不同反应气体(甲烷和乙炔)脱氢和增加沉积基团势垒的...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 利用电子束蒸镀实现了Ti/Ni/Au多层膜在CVD金刚石膜上的金属化,并研究了预处理和后处理工艺对多层膜在基底上结合的影响,发现高温预处理对多层膜和基底的结合有明显的改善.参照国标GJB 1...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 在微波等离子CVD设备中,微波电磁场的不均匀分布将导致等离子球和基片的温度不均匀,从而降低CVD金刚石的质量,因而基片加热是需要的.材料的吸收微波能的能力同微波频率、电场强度、材料的介电常数...
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17. 一种估算热导率的方法刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 径向热导率是金刚石膜应用中的一项主要技术指标.本文介绍了一种通过热导率和X衍射晶面图间相关性估算直流电弧等离子体喷射化学气相沉积金刚石膜径向热导率的方法.该方法需满足的条件为(111)为主的...
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刊名： 人工晶体学报发表期刊： 2000年3期页码:摘要： 金刚石的成核和生长影响金刚石膜的质量.本文用自制的一种新型的不锈钢谐振腔型微波等离子CVD设备,等离子直径为76mm,均匀的温度分布使得金刚石膜均匀生长,在不同工艺条件下研究Si3N4陶瓷刀...
人工晶体学报基本信息
| 刊名 | 人工晶体学报 | 主编 | 张伟儒 |
| 曾用名 | |||
| 主办单位 | 中材人工晶体研究院有限公司 | 主管单位 | 中国建筑材料联合会 |
| 出版周期 | 月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1000-985X | CN | 11-2637/O7 |
| 邮编 | 100018 | 电子邮箱 | jtxbbjb@126.com |
| 电话 | 010-65491290 ;65492963 | 网址 | www.jtxb.cn |
| 地址 | 北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院，北京733信箱 |
人工晶体学报评价信息
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| 1. | 化学文摘(美) |
| 2. | 日本科学技术振兴机构数据库(日) |
| 3. | 中国科技论文统计与引文分析数据库 |
期刊荣誉
| 1. | 1987年获优秀编辑二等奖 |
| 2. | 1989年获优秀期刊奖 |
| 3. | 1997年获全国第二届优秀科技期刊奖 |
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