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微细加工技术2005年第1期出版文献
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
总被引数(次)
4940
微细加工技术
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投稿
Microfabrication Technology
CSTPCD
《微细加工技术》创刊于1983年,是国家科委和国家新闻出版署批准,国内外公开发行的中央级重要科技期刊。是国家一级检索刊物,已连续9年被美国工程信息公司Ei数据库收录,是《中国期刊网》、《中国学术期刊(光盘版)》、《中国学术期刊综合评价数据库》全文收录用刊,是《中国科学引文数据库》来源期刊。
主办单位:
中国电子科技集团公司第48研究所
期刊荣誉:
国家一级检索刊物用刊
美国工程信息公司Ei数据库收录
ISSN:
1003-8213
CN:
43-1140/TN
出版周期:
双月刊
邮编:
地址:
湖南省长沙市
出版文献量(篇)
672
总下载数(次)
2
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4940
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目录
1.
纳米级电子束曝光机用图形发生器
作者:
刘伟 方光荣 顾文琪
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
1-5,16
摘要:
为满足纳米级电子束曝光系统的要求,设计了高速图形发生器,该图形发生器包括硬件和软件两部分.硬件方面主要是利用高性能数字信号处理器(DSP)将要曝光的单元图形拆分成线条和点,然后通过优化设计的...
2.
ZEP520正性电子抗蚀剂的工艺研究
作者:
刘明 李志刚 赵新为 陈宝钦 龙世兵
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
6-11,16
摘要:
详细研究了ZEP520在Si衬底上的对比度、灵敏度、分辨率,并分析了曝光剂量、抗蚀剂厚度对ZEP520线条和圆孔尺寸的影响;同时还初步研究了ZEP520在GaAs衬底上的曝光工艺.实验结果表...
3.
LC19离子注入机控制方法及主控制器原理分析
作者:
伍三忠 孙勇 邱小莎
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
12-16
摘要:
为了使离子注入机满足生产线工艺的要求,控制系统的设计必须使控制功能完善、控制命令响应迅速、命令执行准确可靠、异常处理迅速有效和整机工作稳定可靠.LC19离子注入机控制系统采用主从集中式控制方...
4.
离子注入对二氧化锡薄膜的改性作用
作者:
张涛 朱民 解延雷 辛督强
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
17-21
摘要:
对溅射沉积制成的氧化锡薄膜进行了钨离子注入、氧离子注入和退火处理,并用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)分析了薄膜,研究了注入对薄膜相变的影响.发现在室温下溅射沉积形成的非晶态...
5.
电光调制技术在光刻对准中的应用
作者:
周金梅 曹益平 梁友生 邢廷文
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
22-25,42
摘要:
介绍了投影光刻机离轴对准系统的结构和相位探测的原理,详细讨论了电光相位调制技术抑制杂散光的机理,并分析比较了有无杂散光对光刻对准精度的影响.结果表明,使用电光调制技术可有效提高投影光刻的对准...
6.
周期可变光栅的研制及应用
作者:
李以贵 陈水良
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
26-28
摘要:
设计制作了一种用形状记忆合金驱动的周期可变光栅.用硅微细加工技术制作一种类似弹簧结构的光栅,将光栅与形状记忆合金相连.通上电流,合金温度改变引起形变,因此可以拉伸光栅,并改变光栅周期.对合金...
7.
二次X射线曝光制作凹面光栅
作者:
李以贵 陈水良
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
29-31
摘要:
介绍了一种通过微细加工技术即二次X射线曝光制作凹面光栅的方法.首先利用X射线截面光强遵循高斯分布的性质,无LIGA掩模版曝光显影后在PMMA上得到凹面,凹面深度可由曝光时间控制;再用带有光栅...
8.
极紫外光刻真空工件台技术研究
作者:
朱涛 李艳秋
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
32-37
摘要:
在极紫外光刻系统中,真空工件台的运行精度、速度、加速度以及动态定位和扫描同步性能是影响整机成像质量、套刻精度和产率的重要因素.结合极紫外光刻机的工作原理和发展现状,论述了极紫外光刻机真空工件...
9.
软X射线偏折仪用自支撑莫尔光栅研制
作者:
傅绍军 刘颖 徐向东 洪义麟 王占山
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
38-42
摘要:
介绍了莫尔光栅制作的主要方法和进展.利用紫外光刻、离子束刻蚀技术制作自支撑金莫尔光栅,讨论了金膜厚度要求、电镀金膜质量和光栅占空比控制等影响莫尔光栅质量的关键技术问题.实验结果表明,通过设计...
10.
离轴照明对ArF浸没式光刻的影响
作者:
张飞 李艳秋 黄国胜
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
43-47,57
摘要:
研究了离轴照明对65 nm分辨率ArF浸没式光刻的影响.在3/4环形照明和3/4四极照明方式下,研究65 nm线宽的密集线条、半密集线条、孤立线条在较大曝光系统参数范围内的光刻性能,并对不同...
11.
厚胶光刻中光敏化合物浓度空间分布研究
作者:
刘世杰 唐雄贵 杜惊雷 郭永康 高峰 高福华
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
48-53
摘要:
厚胶光刻过程是一个复杂的非线性过程,其光刻胶内光敏化合物(PAC)浓度空间分布是影响显影面形的主要因素.根据厚层胶光刻的特点,结合光化学反应机理,利用角谱理论,分析了在曝光过程中光刻胶内衍射...
12.
Fe-In2O3纳米复合颗粒膜的制备和磁特性研究
作者:
刘宜华 张林 张连生
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
54-57
摘要:
采用射频溅射法制备了"纳米铁磁金属颗粒-半导体基体"Fe-In2O3复合颗粒膜,研究了颗粒膜磁特性随晶格结构的变化规律.实验结果表明,通过真空退火处理可改变Fe-In2O3复合颗粒膜中纳米F...
13.
基于溶胶-凝胶技术的PZT厚膜快速成膜研究
作者:
褚家如 陈超 鲁健
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
58-62
摘要:
采用快速成膜技术在Pt(111)/Ti/SiO2/Si(100)衬底上成功制备了总厚度为2.56μm,结构致密且无裂纹的Pb(Zro.53,Ti0.47)O3铁电厚膜.研究了快速成膜技术中热...
14.
基于SU-8胶转子的非接触压电微马达
作者:
刘景全 周广华 张金娅 杨斌 蔡炳初 陈迪
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
63-66
摘要:
研制了一种非接触压电微马达,通过阻抗分析仪对定子进行扫频测试,确定其共振频率,并且详细介绍了SU-8胶转子制作的工艺流程.利用转速仪比较不同形状和尺寸的转子在调频和调压下的转速,从而确立压电...
15.
影响碳纳米管生长与结构的参数研究
作者:
严辉 于慕楠 周英 王必本 王波
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
67-70
摘要:
采用负偏压增强热丝化学气相沉积(CVD)方法,在沉积有MFe催化剂层及Ta或Ti过渡层的Si衬底上,通过改变沉积条件制备出不同结构的碳纳米管.扫描电子显微镜的研究结果表明,当过渡层为Ta时,...
16.
悬臂梁接触式RF-MEMS开关的制作研究
作者:
孙建海 崔大付 徐磊 王利 王海宁 苏波
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
71-74
摘要:
报道了悬臂梁接触式RF-MEMS开关的设计、制作和测试结果.整个工艺采用表面微机械加工技术,利用正胶作为牺牲层.其中开关的悬臂梁采用了"三明治"式的结构,即上下两层为SiO2,中间夹着一层C...
17.
多层复杂结构准LIGA一体化加工工艺的研究
作者:
丁桂甫 倪志萍 姜勇 王志民 赵小林 陈文元
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
75-78
摘要:
准LIGA加工工艺通常、能加工单层准三维体.本研究采用SU-8胶准LIGA技术,解决了多层套刻、种子层和表面活化等技术难题,加工出了三维五层一体化复杂结构.实践证明,所提出的工艺实际可行,进...
18.
第十三届三束(电子束、离子束、光子束)学术年会征文通知
作者:
刊名:
微细加工技术
发表期刊:
2005年1期
页码: 
79-80
摘要:
微细加工技术基本信息
刊名
微细加工技术
主编
曾用名
主办单位
中国电子科技集团公司第48研究所
主管单位
出版周期
双月刊
语种
chi
ISSN
1003-8213
CN
43-1140/TN
邮编
电子邮箱
电话
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湖南省长沙市
微细加工技术评价信息
该刊被以下数据库收录
1.
中国科技论文统计与引文分析数据库
期刊荣誉
1.
国家一级检索刊物用刊
2.
美国工程信息公司Ei数据库收录
微细加工技术统计分析
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