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真空
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本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来，由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会，并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增，在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来，被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉：
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
工程技术类核心期刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
出版周期：
双月刊
邮编：
110042
地址：
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 本文简述了前苏联20世纪40年代以来,对于蒸汽的凝结和真空冷冻干燥技术及设备的研究与应用情况,还详细介绍了几种升华干燥设备及其计算方法和实例.
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 通过三因素二次通用旋转组合试验设计,考察了物料厚度、加热板温度和干燥室压力对真空冷冻干燥人参面积收缩率的影响,得出了人参面积收缩率与各因素间的回归模型.试验结果表明,影响试验指标的主要因素是...
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3. 信息动态刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 本文介绍了一种全新、高效、结构小巧、与大功率X射线源连成一体的冷却循环系统；米用磁力 泵技术使循环冷却系统与大功率X射线源构成一体化真空系统,直接冷却射线源内绝缘油；大幅度提高循环冷却系统...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 针对中性束注入等离子体加热过程中的高真空条件要求,借助于国际合作方式,我们为HL-2A 装置中性束注入器设计了一种大吸附面积的高抽速钛泵系统.钛泵系统抽速设计值为30万L/s,由两台大泵和一...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 为减少加速器束流快引出元件铁氧体材料真空出气量,对铁氧体材料进行真空除气、镀膜以及烘烤工艺处理.采用旁路切换法( SPP)测量不同处理条件下的出气率.结果表明,铁氧体材料经真空除气后镀TiN...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 在钛及钛合金熔炼生产中,真空等离子焊接是电极制备的重要工序,而真空等离子焊接的真空度对铸锭的质量影响很大.针对真空等离子焊箱真空控制系统的工艺和控制要求,研制基于工控机+PLC(S7-300...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 本文采用实时测量方法,测量了铜薄膜导电时的电阻.利用监测电阻状态可制作极薄的膜材.与接近块状薄膜相比较,导电性能有所不同.测量了真空下与常态下其随时间变化状况,观察到其形成后有波动的状态.使...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 为解决普通喷枪在检漏时对漏孔定位能力低的问题,设计了一种钟罩式双流道喷枪,并对其开展了测试实验.结果表明:喷氦法检漏时,利用钟罩式双流道喷枪可分辨出相距15mm的相邻漏孔,对单一漏孔定位范围...
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10. 分子流状态平面密封结构漏率预估刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 本文结合Roth模型建立了分子流状态下的漏率计算模型,得出了平面密封泄漏漏率与密封力 矩、密封面粗糙度之间的对应关系,同时还给出为保证分子流状态,密封力矩、密封面粗糙度应满足的条件.在理论计...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 本文针对管状工件内表面的真空镀膜方法进行了分类综述.介绍了国内外学者所开发研究的十余种镀膜方法,对各种方法的应用范围和特点进行了简要分析.最后总结提出尚存的问题.
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 本文对比探索了新型Al/α -Si/Al三明治结构与传统的Al/α -Si双层结构对铝诱导非晶硅薄膜低温晶化结果的影响,结果表明在相同的制备及退火条件下,前者更利于形成高度晶化的多晶硅薄 ...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 用磁控溅射法在奥氏体不锈钢上分别制备了SiC单层膜和Al2O3/SiC双层膜,研究了溅射气压,溅 射功率以及退火温度对性能的影响.对比了二者的结构、硬度以及耐腐蚀性.结果表明,Al2O3缓...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 本文介绍非晶硅薄膜太阳能电池生产线的核心设备——等离子体增强化学气相沉积(PECVD, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)系统,并阐述了其...
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15. 一种双真空室结构磁控溅射台的研制刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 本文研制了一种较高档的磁控溅射镀膜设备,用于微电子器件规模化生产过程中的基片表面镀膜.该设备采用双真空室结构,使溅射室始终维持较高的真空度和洁净度,提高镀膜质量和镀膜效率.环绕溅射室设计了3...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 采用阳极层流离子源与非平衡磁控溅射结合的沉积方法在H13钢基体表面沉积出类金刚石膜(DLC),并对H13钢经不同表面预处理对后沉积的DLC膜的摩擦学性能进行了对比研究.结果表明:DLC膜结构...
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17. 磁控溅射靶材刻蚀特性的模拟研究刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 靶材刻蚀特性是研究磁控溅射靶材利用率、薄膜生长速度和薄膜质量的关键因素.本文用有限元 分析软件ANSYS模拟了磁控溅射放电空间的磁场分布,用粒子模拟软件OOPIC Pro(object...
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18. 纳米晶硅薄膜材料的技术发展刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 本文综述了硅基薄膜材料的发展历程；提出了一些促进硅基薄膜电池技术进步的思路；并对硅 基薄膜电池的发展进行了有益的探讨,对最新的硅基薄膜太阳能电池作了展望.
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 采用射频磁控溅射法在无压烧结SiC陶瓷基片上沉积了无定形Si-C-O-N涂层.利用FESEM观 察了涂层的表面形貌,结果显示:随着溅射功率的增加,涂层的表面缺陷逐渐减少,结构趋向致密化.这...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 由于膜基附着力不好,膜层脱落问题是工业生产中磁控溅射镀制黑膜最常见的问题.本实验采用 阳极线性离子源和霍尔点源辅助磁控溅射复合技术制备了TiNC薄膜,探讨解决TiNC膜基附着力不好的问题....
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刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要： 本文采用标准的k-ε三维紊流模型,利用FLUENT软件对喷嘴型真空高压气淬炉中空炉冷态流场和工件满装炉量下气固耦合流动传热过程进行了数值模拟计算.建立了符合实际的控制方程和简化物理模型,对空...
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22. 第十七讲薄膜与表面技术基础刊名： 真空发表期刊： 2012年1期页码:摘要：
真空基本信息
| 刊名 | 真空 | 主编 | 陆国柱 |
| 曾用名 | 真空技术报导 | ||
| 主办单位 | 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 | 主管单位 | 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1002-0322 | CN | 21-1174/TB |
| 邮编 | 110042 | 电子邮箱 | zkzk@chinajournal.net.cn |
| 电话 | 024-24134406 | 网址 | www.vacjour.cm |
| 地址 | 辽宁省沈阳市万柳塘路2号 |
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