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真空
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本杂志是中国真空界主要杂志之一。自1994年真空杂志转换经营机制以来，由我国真空企业界实力雄厚的厂家与杂志社联办成立董事会，并由真空学术界著名学者组成编委会。社会效益与经济效益与日俱增，在国内真空界享有盛誉。自1989年公开发行以来，被美国、英国、德国、日本、意大利、韩国以及港澳地区越来越多的海外学者所关注。
主办单位：
中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所
期刊荣誉：
中国期刊网、光盘国家工程中心用刊
工程技术类核心期刊
ISSN：
1002-0322
CN：
21-1174/TB
出版周期：
双月刊
邮编：
110042
地址：
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 直接比对法是氦质谱检漏仪在稳定工作和引入气体相同条件下,将参考漏孔流出的氦气和标准漏孔提供的已知流量的氦气分别引入校准室中,用氦质谱检漏仪分别测量氦气产生的离子流,通过比较两次离子流的测量值...
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2. 信息动态刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要：
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 简述美国标准AMS 2750D中系统准确度测试传感器、炉温均匀性测试传感器、控制温度传感器及负载传感器的性能、用途、分类与选择,以及在线原位校准的优点.详细探讨符合美国标准要求的温度传感器的...
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4. 真空比对标准装置的研究刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 真空比对标准装置是由真空泵、校准室、真空管道、各种阀门及真空规组成的.根据实际使用情况,从四个方面对真空比对标准装置进行了详细的分析,包括:校准室的研究、微调阀性能的研究、标准规计量学特性的...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 在Pro/E环境中针对涡轮分子泵的涡轮叶片(动片和静片)编写了专用的3D模型设计程序,使涡轮分子泵繁琐的叶片建模变得快速、简洁而准确.通过引用该程序,在规划好涡轮叶片参数的情况下,在数十秒时...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 影响真空管道交通建设成本与运营成本的因素很多,其中管道断面尺寸是最主要的影响因素.管道断面越小,显然建设成本越低.但小管道断面意味着阻塞比增加和空气阻力增大,对运营成本的影响并非显然.通过对...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 本文介绍了宝钢炼钢厂4#RH水环泵和蒸汽喷射泵混合式真空系统的组成,分析了4#RH真空系统的技术特点,并介绍了投产后的使用情况,最后总结了设备管理方面的创新和经验教训.
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 真空度是影响汽轮机带负荷和热效率的一个重要技术经济指标,传热效能又直接影响真空度的高低,根据传热学的原理,结合汽轮机凝汽器运行情况,提出了提高真空度的办法,改善交换工况,从而达到提高节能效果...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 真空断路器是中压配电开关中的核心类型,真空灭弧室的真空度是影响其运行质量和寿命的重要因素.伴随着国家智能电网和基于可靠性检修体制的不断发展,在线监测灭弧室真空度成为智能断路器的新要求.基于耦...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 本文简要阐述了“逐层”设计方法,并将其用于真空紫外波段高反膜的设计.利用Matlab软件编程设计,计算了50 nm～200 nm波段范围内高反膜系及其反射率.并与同样以熔融石英为基底、不同膜...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 在中频孪生靶反应磁控溅射实验装置上,用PEM控制沉积TiO2薄膜,实验了靶基距、电流与沉积速率的关系.实验得出,靶基距为112 mm时沉积速率最大,沉积速率与电流基本成线性比例关系.在溅射电...
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12. 铀表面脉冲辉光等离子氮化初步研究刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 采用脉冲辉光等离子体离子氮化技术对贫铀表面进行了氮化处理,采用俄歇电子能谱( AES)对氮化层进行元素深度剖析,采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)对氮化层组织结构进行了分析表...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 采用RF-PECVD法在锗(Ge)基片上沉积类金刚石(DLC)薄膜,研究了气体流量和气压对沉积区域均匀性的影响,以及基片厚度与沉积时间的关系.用拉曼光谱(Raman)分析DLC膜的结构组成,...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 采用光学显微镜在透射光、反射光和侧光模式下研究了多晶CVD金刚石厚膜中黑色缺陷的存在形式,利用X射线光电子能谱、拉曼光谱研究了黑色缺陷的组成成分.结果表明:晶界处的裂隙或者孔洞和晶粒内部的结...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 本文采用阴极电弧离子镀技术制备了ZrN膜层,研究了工作气压、偏压、弧流等工艺参数对ZrN膜层表面形貌和结构的影响,分别用扫描电镜( SEM)、X射线衍射仪(XRD)分析了膜层的表面形貌及相结...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 采用射频磁控溅射工艺,以Al掺杂ZnO (ZAO)陶瓷靶为靶材在石英玻璃基片上制备出具有优良光电性能的ZAO透明导电薄膜,研究了溅射功率对薄膜光电性能的影响.在不同溅射功率条件下制备的ZAO...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 本文计算了内聚光膜式全玻璃真空太阳集热管在烘烤排气过程中的排气量,提出了一种定量表征其真空品质的方法,然后通过集热管高温烘烤——加速老化实验对其真空性能进行了验证,首次利用内聚光膜式集热管高...
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18. 二元合金薄膜的表面偏析刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 本文评述了广泛应用于描述平衡态和动态偏析的修正Darken模型.该模型首次提出了偏析的驱动力是化学势梯度,并成功地应用于定量描述体块材料的平衡态和动态的表面偏析.在考虑到薄膜体系中的尺寸效应...
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19. 氮化钛薄膜光学性质的研究进展刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 介绍了拟合氮化钛薄膜光学常数常用的色散模型,且结合第一性原理计算出的能带结构和态密度给予阐述；概括了氮化钛在表面等离子体共振方面的研究进展和掺杂对于氮化钛薄膜光学性能的影响；并且指出了氮化钛...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 传统电弧离子镀存在着大颗粒污染、沉积温度相对较高和易引发微弧击穿效应等诸多不足,制约其在精细薄膜、低温沉积和功能薄膜等方面的应用.本文简要介绍了电弧离子镀中大颗粒的形成机理,旨在探讨用磁场控...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 为了研制高激光性能紫外增透膜,分别使用HfO2/SiO2和Al2O3/MgF2两种高低折射率材料组合,采用物理气相沉积技术,设计制备了266 nm增透膜；分析测试了不同材料所组成的增透膜的剩...
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22. p型掺杂ZnO薄膜的研究进展刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 近年来,随着对ZnO的光电性质及其在光电领域应用的开发研究,制备可靠稳定的低阻p型ZnO薄膜成为研究热点之一.本文论述了p型ZnO薄膜制备的难点及其解决方法,综述了其最新研究进展,并对p型Z...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 采用射频等离子体增强化学气相沉积(rf-PECVD)技术,在玻璃和硅衬底上沉积微晶硅(μc-Si:H)薄膜.利用拉曼光谱、AFM和电导率测试对不同射频功率下沉积的薄膜的结构特性及光电性能进行...
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24. CPC热管真空管式热水器实验研究刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 研制了一种CPC(复合抛物面聚焦)热管真空管式太阳能热水器.该热水器在普通玻璃真空管热水器的基础上耦合热管技术,并增加了CPC聚光板.对该热水器与全玻璃真空管太阳能热水器进行了热性能对比实验...
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刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要： 基于PLC或“PLC+上位机”电力变压器变压法真空干燥状态监控系统,硬件系统相对复杂,需要A/D转换和人机界面组态.监控系统改用“PLC+无纸记录仪”,硬件系统大大简化,无需计算机、A/D转...
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26. 第十七讲 薄膜与表面技术基础刊名： 真空发表期刊： 2012年4期页码:摘要：
真空基本信息
| 刊名 | 真空 | 主编 | 陆国柱 |
| 曾用名 | 真空技术报导 | ||
| 主办单位 | 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 | 主管单位 | 机械工业部期刊管理办公室 中国机械工业集团公司沈阳真空技术研究所 |
| 出版周期 | 双月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1002-0322 | CN | 21-1174/TB |
| 邮编 | 110042 | 电子邮箱 | zkzk@chinajournal.net.cn |
| 电话 | 024-24134406 | 网址 | www.vacjour.cm |
| 地址 | 辽宁省沈阳市万柳塘路2号 |
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