PEM控制中频孪生反应磁控溅射沉积TiO2薄膜的研究

• 作者: 王军生 王治安 童洪辉 韩大凯
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: PEM 磁控溅射 TiO2 沉积速率 设置点 晶体结构 折射率
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 36-39
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1|TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.04.010

摘要

在中频孪生靶反应磁控溅射实验装置上,用PEM控制沉积TiO2薄膜,实验了靶基距、电流与沉积速率的关系.实验得出,靶基距为112 mm时沉积速率最大,沉积速率与电流基本成线性比例关系.在溅射电流30 A,靶基距112 mm,设置点2.5时,测量了基片随时间的温升变化.然后以自然温升的单晶硅为基片,实验研究了设置点对TiO2薄膜晶体结构、折射率的影响.实验结果表明,设置点越高溅射沉积的薄膜金红石相越多,折射率也越高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	童洪辉		51	520	10.0	21.0
2	王治安		5	24	2.0	4.0
3	王军生		7	40	3.0	6.0
4	韩大凯		9	41	4.0	6.0