溅射功率对ZnO:Al薄膜光电性能的影响

• 作者: 代海洋 冯雪磊 李永 董群喜 陈镇平
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射功率 ZAO薄膜 电阻率 透过率 光学带隙
• 年，卷（期）: 2012,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 55-58
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2012.04.015

摘要

采用射频磁控溅射工艺,以Al掺杂ZnO (ZAO)陶瓷靶为靶材在石英玻璃基片上制备出具有优良光电性能的ZAO透明导电薄膜,研究了溅射功率对薄膜光电性能的影响.在不同溅射功率条件下制备的ZAO薄膜具有很好的c轴择优取向.较大功率溅射有利于薄膜晶粒尺寸的增大、电阻率降低.ZAO薄膜在可见光区的透过率平均值高达90％以上,受溅射功率影响不大.在340nm-420nm波长附近ZAO薄膜透过率急剧下降,呈现明显的紫外吸收边；高的溅射功率提高了ZAO薄膜的光学带隙宽度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈镇平	郑州轻工业学院技术物理系	55	139	6.0	8.0
2	代海洋	郑州轻工业学院技术物理系	18	36	4.0	4.0
3	李永	郑州轻工业学院技术物理系	2	7	1.0	2.0
4	冯雪磊	郑州轻工业学院技术物理系	1	6	1.0	1.0
5	董群喜	郑州轻工业学院技术物理系	1	6	1.0	1.0