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真空科学与技术学报2005年出版文献
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
总被引数（次）
19905
真空科学与技术学报
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本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
出版文献量（篇）
4084
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3
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19905
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 聚合物在纳米粒子表面接枝后,可在其表面建立起空间位阻稳定层,提高纳米粒子的分散稳定性及其与树脂基体的相容性.本文采用缩聚法在纳米SiC表面接枝了聚缩醛,X射线光电子能谱(XPS)的分析结果表...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 在室温条件下,采用脉冲激光沉积技术在玻璃衬底上生长了ZnO薄膜.对薄膜的XRD分析表明,ZnO薄膜为六方纤锌矿结构并沿c轴取向生长,且(002)衍射峰的半高峰宽仅为0.24°.薄膜沿c轴方向...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 采用射频磁控溅射方法分别在玻璃、A1片和ITO玻璃上制备出性能优良的TiO2纳米薄膜,研究了薄膜光催化性能.通过XRD、SEM和UV-Vis吸收光谱对薄膜进行表征,研究了不同退火温度和不同衬...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 采用磁控溅射方法制备了一系列不同Si3N4和TiN层厚的TiN/Si3N4纳米多层膜,采用X射线衍射、高分辨电子显微分析和微力学探针表征了薄膜的微结构和力学性能,研究了Si3N4和TiN层厚...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 本文研究了轧制青铜试片的取向对离子束溅射(IBS)制备的TbDy-Fe超磁致伸缩膜(GMF)应力及磁致伸缩性能的影响.结果表明,溅射沉积在沿垂直轧制方向截取的试片上沉积膜的应力小于沿平行轧向...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 本文介绍了一种新的制备TiN的工艺方法.利用辉光放电溅射现象、尖端放电和空心阴极效应,在钢铁材料表面直接复合形成TiN渗镀扩散层.用X射线衍射、辉光放电剥层成分分析仪、显微硬度仪等方法,对复...
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67. 高速微晶硅材料的制备及其特性分析刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 本文采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术制备出了系列不同功率的微晶硅薄膜.对薄膜的电学特性和结构特性进行了测试分析,结果表明:制备出了光敏性在500～700、激活能在0.5 eV左右、沉积...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 为研究衬底温度对酞菁铜(CuPc)薄膜的结构、光学及光电导性能的影响,文中采用真空热蒸发方法制备了不同衬底温度的CuPc薄膜.X射线衍射和Raman光谱分析显示CuPc薄膜呈现很好的定向生长...
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69. 稀土Nd掺杂纳米SnO2薄膜特性刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 对采用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备的稀土Nd掺杂的SnO2薄膜,进行结构、电学及光学特性的测试分析.实验表明:氧化、热处理条件为500 ℃、45 min时样品性能好.采用一步成膜工艺法制备...
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70. 类金刚石薄膜光学特性的椭偏法研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 本文采用脉冲电弧离子镀的方法,在p型硅上沉积类金刚石薄膜,用椭偏法测试薄膜的光学常数.根据沉积方法的特点,建立一个四层结构的膜系,并由每一层的吸收情况合理选择色散关系;结合透过率的测试结果,...
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71. 热蒸发法制备SnS薄膜及其表征刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 用热蒸发技术在ITO玻璃基片上沉积SnS薄膜.通过对该薄膜进行结构、成分和表面形貌分析,表明它是具有正交结构的SnS多晶薄膜;相对于恒电流电沉积法制备的SnS薄膜来说,该薄膜颗粒更细,粒径在...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 本文利用六甲基二硅氧烷(HMDSO)作为硅的先驱粒子,氮或氩气为稀释气体,进行了大气压等离子体化学气相沉积类二氧化硅薄膜的实验研究.运用红外光谱(FTIR)、光电子能谱(XPS)和扫描电镜(...
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73. 室温直流磁控溅射氮化钛薄膜研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 利用直流磁控溅射在室温下沉积出性能优良的氮化钛薄膜,研究了N2流量和偏压对氮化钛薄膜性能和结构的影响,并采用扫描隧道显微镜(STM)技术对其表面形貌进行了较为详细的研究.结果表明,随着N2流...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 在室温条件下采用直流反应磁控溅射法制备了新型透明导电In2O3:Mo薄膜.研究了溅射压强中氧气百分含量[P(O2)]为8.0%～18.0%时对薄膜光电特性以及表面形貌结构的影响.结果表明,薄...
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75. 实时光学薄膜膜厚监控系统研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 在光电极值法基础上采用一定的信号采集方法、数据处理和极值点判断算法,通过硬件电路和高级程序语言设计了膜厚监控系统.实验表明,该系统能够对光学薄膜镀制过程进行实时在线跟踪,以及对膜层厚度的准确...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 本研究以TiCl4和NH3为反应气体,N2为保护气氛,用常压化学气相沉积法(APCVD)在玻璃基板上沉积制备得到了一系列不同反应温度和原料浓度的TiN薄膜.利用X射线衍射(XRD)和方块电阻...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 本文测量了垂直基底方向生长的硅纳米线阵列的场发射性质,并研究了引入金对其场发射性质的影响.引入金后,硅纳米线阵列在10 μA/cm2时的开启电场从4.7 V/μm降到了2.3 V/μm,并且...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年4期页码:摘要： 本文首先介绍着屏的归一化处理.接着提出主透镜的曲面模型,并分析获取该曲面的条件.然后以纠正着屏偏差为目标论述如何在旧透镜的基础上获得了新的透镜曲面.扼要介绍了软件的组成和一些算法.通过实例验...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年5期页码:摘要： 用电弧离子镀设备,在其他工艺参数相同的条件下,通过仅改变脉冲偏压幅值的方法分别沉积TiNbN硬质薄膜,考察脉冲偏压对薄膜相结构的影响.结果表明,TiNbN硬质薄膜的相结构随脉冲偏压幅值的变化...
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80. PDP单元寻址期放电特性的研究刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年5期页码:摘要： 本文基于帕邢定律,采用数值模拟的方法,计算了放电单元内,沿不同放电路径着火电压的分布情况.结合流体模型,研究了寻址期ACCPDP中X电极偏压,对寻址放电以及壁电荷积累的影响.模拟结果表明,寻...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年5期页码:摘要： 采用N离子注入金刚石膜和热解石墨方法合成了CNx膜,用Raman光谱和XPS谱对合成薄膜中C、N的化学键合状态进行了研究.通过与Raman光谱的比较,我们对合成样品XPS谱中N1s的化学键合...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年5期页码:摘要： 彩色CRT的偏转误差主要包括会聚误差和光栅误差,测量会聚误差和光栅误差是验证偏转线圈偏转特性的重要手段.会聚误差取决于R/G/B三束在屏上相互之间的距离量,而G束形状则决定了屏上光栅的误差量...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年5期页码:摘要： 真空蒸发SiO粉末,在Si(100)基体上制备SiOx薄膜,后续氮气中1100 ℃退火制备镶嵌在SiO2基体中的纳米晶Si体系(nc-Si/SiO2),然后将该样品放入真空室,在其上沉积Ce...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年5期页码:摘要： 在一般的材料生长过程中,由于某些实验参数控制不当,比如生长过程中过高的沉积速率会导致局部的材料中出现孔洞,这种孔洞严重影响了薄膜材料的性能.本文以铜薄膜为例,利用动力学晶格蒙特卡罗方法,模拟...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年5期页码:摘要： 在环境扫描电镜(ESEM)中注入氧气,减少和消除绝缘样品表面在电子束辐照下产生的荷电效应.二次电子像的观察显示,在压力为130Pa～600Pa的ESEM中,氧气对Al2O3、Al(OH)3等...
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86. 溅射靶功率对氮化碳薄膜结构的影响刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年5期页码:摘要： 利用双放电腔微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射技术,在Si(100)上制备氮化碳薄膜,并对薄膜进行了拉曼(Raman)、原子力显微镜(AFM)、X射线光电子谱(XPS)等结构的表征.发现溅...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年5期页码:摘要： 采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积的方法以C4F8和CH4为源气体制备了非晶氟化碳(a-C:F)薄膜.采用傅里叶变换红外光谱(FTIR)和X光电子能谱(XPS)技术分析了a-C:F薄膜化学...
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刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年5期页码:摘要： Si衬底用化学方法清洗后,表面大约残余1.0 nm厚SiO2薄膜.利用原子力显微镜(AFM)和反射高能电子衍射(RHEED)来研究温度和Ge蒸发厚度对在SiO2薄膜表面生长的Ge量子点的影响...
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89. 毫米级长定向碳纤维阵列的制备刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年5期页码:摘要： 本文通过在固体二茂铁前驱体中添加少量硫粉,利用浮动催化化学气相沉积法制得了高纯度,直径和长度均一、且笔直定向、长达数毫米的碳纤维阵列.研究了反应温度和硫在碳纤维形成过程中的作用.用扫描电子显...
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90. 轨道分子屏极高真空系统的抽气方程刊名： 真空科学与技术学报发表期刊： 2005年5期页码:摘要： 地面真空系统中,气体处于封闭的真空容器内,达到平衡状态时,真空系统的抽气方程式是:P=Q/S;轨道分子屏系统是开放的,或者说具有部分真空容器,相应的抽气方程应该是怎样的形式呢?本文提出了一个...
真空科学与技术学报基本信息
| 刊名 | 真空科学与技术学报 | 主编 | 吴锦雷 |
| 曾用名 | 真空科学与技术 | ||
| 主办单位 | 中国真空学会 | 主管单位 | 中国科学技术协会 |
| 出版周期 | 月刊 | 语种 |
chi
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| ISSN | 1672-7126 | CN | 11-5177/TB |
| 邮编 | 100022 | 电子邮箱 | vst@chinesevacuum.com |
| 电话 | 010-58206280 | 网址 | |
| 地址 | 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室 |
真空科学与技术学报评价信息
该刊被以下数据库收录
| 1. | 化学文摘(美) |
| 2. | 中国科学引文数据库 |
| 3. | 日本科学技术振兴机构数据库(日) |
| 4. | 中国科技论文统计与引文分析数据库 |
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