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真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
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真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量（篇）
4084
总下载数（次）
3
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  • 1. 各种结构等离子体显示屏放电过程的研究
    作者： 姜有燕 屠彦 崔伟 张雄 王保平
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  429-434
    摘要： 采用放大单元的方法研究了表面放电结构、对向放电结构和新型荫罩式等离子体显示屏(SMPDP)的放电过程.分别制作了放大倍数为40的表面放电结构、对向放电结构和荫罩式结构PDP的放大单元.建立了...
  • 2. 强流微束斑电子束系统的研究和设计计算
    作者： 任岩 唐天同 康永锋 郭小立
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  435-440
    摘要： 本文研究了强流微束斑电子束的形成问题.提出了一种采用新型磁透镜的电磁复合聚焦系统,这种新型电子束系统的轴上磁场在电子束束腰附近达到极大值,并且轴上磁场分布关于其极大值不对称.利用附加电极在磁...
  • 3. 脉冲偏压电弧离子镀CrAlN薄膜研究
    作者： 卢国英 林国强
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  441-445
    摘要： 在高速钢和不锈钢基体上用脉冲偏压电弧离子镀技术制备了CrAlN薄膜,研究了脉冲偏压对薄膜成分、结构和性能的影响,并进行了900 ℃下的高温抗氧化性能检测.结果表明,薄膜中Al的相对含量随着脉...
  • 4. PLD生长的ZnO薄膜的微结构及其发光特性研究
    作者： 刘忠良 孙柏 张国斌 徐彭寿 邹崇文 韦世强
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  446-450
    摘要： 在不同的衬底温度下,通过脉冲激光淀积(PLD)方法在Si衬底上生长出c轴高度取向的ZnO薄膜.ZnO薄膜的结构分别通过X射线衍射(XRD)和广延X射线吸收精细结构(EXAFS)来表征,而表面...
  • 5. 分子动力学模拟Gd原子在Cu低密勒表面的扩散过程
    作者： 谢国锋 陈难先
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  451-454
    摘要： 为了分析Gd吸附原子在Cu(001)、Cu(110)和Cu(111)表面的扩散机制,本文用分子动力学对该扩散过程进行模拟.模拟结果表明在Cu(001)和Cu(111)表面,Gd原子通过跳跃机...
  • 6. 真空平板玻璃支撑应力实验研究
    作者： 张华 张瑞宏 顾乡 高建和
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  455-458
    摘要： 用弹性力学的结点法建立真空玻璃支撑应力-应变力学模型,求出真空玻璃的支撑应力-应变场,分析了其应力-应变分布规律,同时用了电测方法进行试验验证.试验结果表明,真空玻璃最大应力发生在四角第二个...
  • 7. 真空紫外～X射线反射膜研究现状
    作者： 付绍军 刘颍 干蜀毅 徐向东 洪义麟
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  459-468
    摘要： 真空紫外～X射线反射膜在分子、原子结构、宇宙物理、微纳米器件、生命科学等研究领域有着极其重要的应用.本文总结了迄今为止在λ＜200nm内反射膜研究的进展情况,列出了常用单层金属反射膜最佳沉积...
  • 8. 冷冻干燥技术在材料制备领域的应用研究进展
    作者： 宋顺林 席晓丽 童培云 翟立力 聂祚仁 蒋亚宝 邹景霞
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  469-474
    摘要： 介绍了冷冻干燥技术的基本原理和特点,简要综述冷冻干燥技术在国内外材料制备领域的研究进展,并对冷冻干燥技术在材料制备领域的发展方向做出预测.
  • 9. CVD金刚石膜紫外光探测器
    作者： 刘健敏 夏义本 楼燕燕 王林军 马莹
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  475-481
    摘要： 宽禁带半导体金刚石具有许多独特特性,基于此种材料的紫外光探测器能在高温、强腐蚀和强辐射等恶劣环境下工作,成为近年来紫外探测技术研究的重点课题之一.本文综述了CVD金刚石膜紫外光探测器的研究及...
  • 10. 射频等离子体聚合SiOx薄膜的研究
    作者： 葛袁静 陈强 韩尔立
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  482-486
    摘要： 在射频等离子体放电条件下,以六甲基二硅氧烷(Hexamethyldisilone,HMDSO)为单体,氧气为反应气体,在PET薄膜及载玻片上聚合SiOx薄膜.通过红外光谱(FTIR)分析了工...
  • 11. ZnO纳米线原位生长的ESEM方法
    作者： 付景永 吉元 张跃飞 张隐奇 权雪玲 田彦宝 郑善亮 韩晓东
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  487-490
    摘要： 以环境扫描电镜(ESEM)为基础,配置氧气微注入系统及加热台附件,作为ZnO纳米线生长的微型实验室.实验结果表明,纯Zn片在环境压力为1×10-2 Pa和300 ℃的环境条件下,可原位反应生...
  • 12. 过渡层对含氢非晶碳膜生长的影响
    作者： 巴德纯 蔺增
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  491-493
    摘要： 本文利用射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)工艺在不锈钢基底上制备了含氢非晶碳膜(a-C∶H膜).在沉积碳膜之前,首先在基底表面预先沉积了Ti/TiC、Ti/TiN和Ti/TiN...
  • 13. 离子束溅射La0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜的XRD和XPS研究
    作者： 丁铁柱 张利文 朱志强 王强 赵倩
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  494-499
    摘要： 采用离子束溅射法在氧化钇稳定的氧化锆(YSZ)和铝酸镧(LaAlO3)上溅射RE0.5Sr0.5CoO3-δ薄膜,测试了薄膜的XRD、XPS谱、分析了表面微结构及化学状态.实验表明,随着热处...
  • 14. 4H-SiC在Cl2+Ar混合气体中的ICP刻蚀工艺研究
    作者： 李跃进 杨银堂 柴常春 贾护军
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  500-503
    摘要： 采用Cl2+Ar作为刻蚀气体进行了单晶4H-SiC材料的感应耦合等离子体(ICP)刻蚀工艺研究,分析了气体流量、气体混合比、反应室压力、ICP功率等工艺参数对刻蚀速率和刻蚀质量的影响.得到的...
  • 15. ZBO(ZnO∶B)靶材烧结机理与特征的研究
    作者： 侯天雅 庄大明 张弓
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  504-507
    摘要： 用常压烧结方法,在1200 ℃～1350 ℃烧结不同含B量的掺硼氧化锌(ZBO)靶材.研究了掺杂量、烧结温度对ZBO靶材微观结构的影响.实验表明,随着烧结温度的增加,ZBO陶瓷的晶粒大小和密...
  • 16. LaAlO3/BaTiO3/SrTiO3三色超晶格的RHEED原位监测
    作者： 唐金龙 张鹰 朱俊 李言荣 熊杰 秦文峰 罗文博
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  508-511
    摘要： 采用激光脉冲分子束外延技术,在(100)取向的STO单晶基片上成功外延生长了LaAlO3/BaTiO3/SrTiO3超晶格.在超晶格薄膜生长过程中采用反射高能电子衍射(RHEED)对LaAl...
  • 17. Ni修饰层对SnO2薄膜气敏性能影响
    作者： 杜军 杨志民 毛昌辉 王磊
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  512-516
    摘要： 采用磁控溅射技术在SnO2薄膜表面修饰金属Ni,研究Ni修饰量对SnO2薄膜气敏性能影响.对Ni-SnO2薄膜进行表面成分分析,发现Ni的表面含量和化学价态对Ni-SnO2薄膜气敏性能影响至...
  • 18. 直流磁控溅射Cr/Cr2O3金属陶瓷选择吸收薄膜的研究
    作者： Y.Yin 潘永强
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  517-521
    摘要： 光谱选择吸收薄膜的制备是太阳能集热器高效吸收太阳能的关键技术.本文首先研究了磁控溅射Cr/Cr2O3金属陶瓷选择吸收膜中,氧气流量、溅射靶电流等基本参数对靶电压的影响,然后对不同氧气流量和靶...
  • 19. 磁控溅射制备PST薄膜的介电与铁电性能
    作者： 孙平 王茂祥
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  522-525
    摘要： (Pb1-xSrx)TiO3系铁电材料是一种互溶性较好的钙钛矿材料,本文采用磁控溅射法,在Si基底上成功地制备了结构致密、性能优良的PST铁电薄膜,其制备工艺可与Si微电子技术兼容.性能测试...
  • 20. 碳含量对碳氮化硅薄膜化学结构和力学性能的影响
    作者： 丁万昱 徐军 朴勇 陆文琪 马腾才 高鹏
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  526-529
    摘要： 利用微波电子回旋共振(MW-ECR)等离子体增强非平衡磁控溅射法制备了碳氮化硅(SiCN)薄膜.研究结果表明,碳含量对薄膜化学结构、力学性能有很大影响.傅里叶变换红外光谱(FT-IR)和X射...
  • 21. 真空冷却过程中气体温度变化特性的研究
    作者： 周冰 徐波 林美英 陈儿同
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  530-532
    摘要： 为了研究真空冷却过程中真空室内气体温度的变化特性,以水为实验对象,在真空室内布置了压力及多个温度测点,进行多组真空冷却实验,从而测得在抽真空和复压过程中真空室内的压力和各点的气体温度值.研究...
  • 22. 类金刚石薄膜的激光损伤特性测试与分析
    作者： 徐均琪 苏俊宏 谢松林
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2006年6期
    页码:  533-536
    摘要： 使用脉宽12 ns,波长1064 nm调Q Nd:YAG激光器对真空阴极电弧沉积(VCAD)法制备的类金刚石薄膜进行抗激光损伤测试,结果表明,VCAD法镀制的薄膜抗激光损伤阈值为0.6 J/...

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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