应用于MEMS的多孔硅的制备方法研究

• 作者: 倪国强 崔梦 田斌 胡明 韩建忠
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 多孔硅 MEMS 制备方法 双槽电化学腐蚀法
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 信息材料及应用
• 页码范围: 32-34
• 页数: 3页
• 分类号: TN402
• 字数: 2879字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2004.06.012

摘要

采用化学腐蚀法、单槽电化学腐蚀法和双槽电化学腐蚀法来进行多孔硅的制备,通过对比这三种方法所制备多孔硅的表面形貌特征,发现双槽电化学腐蚀法与其它两种方法相比,具有孔径尺寸小(可达5～10 am)、均匀性好、腐蚀深度大(可达几百nm)等优点,其制备的多孔硅更符合在MEMS中应用的要求.最后对双槽电化学腐蚀法中腐蚀时间及电流密度对腐蚀速率的影响进行了研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡明	天津大学电子信息工程学院	139	1336	19.0	28.0
2	倪国强	北京理工大学光电工程系	203	3505	29.0	52.0
3	崔梦	天津大学电子信息工程学院	10	123	7.0	10.0
4	田斌	天津大学电子信息工程学院	14	269	9.0	14.0
5	韩建忠	北京理工大学光电工程系	2	31	2.0	2.0