非晶硅碳(a-SiC:H)薄膜光学常数的透射谱表征

• 作者: 廖显伯 胡志华
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光学常数 透射谱 非晶硅碳薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 34-37
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.2+4
• 字数: 2417字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2005.01.007

摘要

报道了一种用透射谱数据分析法计算非晶硅碳薄膜的厚度、折射率、吸收系数和光学带隙等光学常数的方法和程序.这一方法引用有效谐振子模型理论的折射率色散关系,所有公式均为解析表达式,便于进行数据处理,无须专用软件,使用Excel即可完成,适用于多种半导体薄膜材料.将这种方法应用于PECVD方法制备的非晶硅碳(a-SiC∶H)薄膜,对其光学特性进行了分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡志华	中国科学院半导体研究所凝聚态物理中心表面物理国家重点实验室	17	121	5.0	10.0
3	廖显伯	中国科学院半导体研究所凝聚态物理中心表面物理国家重点实验室	31	378	7.0	19.0