中频反应磁控溅射沉积Al2O3薄膜中迟滞回线的研究

• 作者: 刘斯明 巴德纯 廖国进 闻立时 阎绍峰
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 迟滞回线 反应溅射 中频溅射 氧化铝薄膜
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 3531字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2007.03.009

摘要

采用中频磁控反应溅射工艺进行氧化铝薄膜的沉积实验,对该工艺过程中溅射电压和沉积速率与氧流量的"迟滞回线"现象进行了研究.通过对实验现象的分析讨论,解释了薄膜沉积速率变化的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴德纯	东北大学机械与自动化学院	250	1491	18.0	22.0
2	廖国进	东北大学机械与自动化学院	19	89	5.0	9.0
4	闻立时	中国科学院金属研究所表面工程部	117	1859	24.0	36.0
5	刘斯明	北京航空航天大学机械与自动化学院	18	309	8.0	17.0
8	阎绍峰	辽宁工学院机械与自动化学院	14	56	4.0	7.0