基于像素分布特性的IC晶片视觉检测方法

• 作者: 伍冯洁 吴黎明
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: IC晶片 冗余物 机器视觉 投影定理
• 年，卷（期）: 2007,（10）
• 所属期刊栏目: 封装、测试与设备
• 页码范围: 899-903
• 页数: 5页
• 分类号: TN407
• 字数: 2884字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2007.10.019

摘要

IC晶片制造过程存在多种致命缺陷,致使芯片失效,导致成品率下降.冗余物缺陷是影响IC晶片成品率下降的重要原因,主要造成电路短路错误.针对冗余物缺陷对版图的影响,提出了一种简单可行的缺陷视觉检测方法,以实现冗余物缺陷的识别及电路失效形式的确定.根据摄取的显微图像的图像特征,利用光线补偿技术及形态滤波方法消除干扰噪声,以提高图像质量,采用投影定理及基于像素分布特性的检测方法,实现电路短路形式或缺陷未导致电路失效的识别.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴黎明	广东工业大学信息工程学院	107	764	12.0	22.0
2	伍冯洁	广州大学实验中心	34	176	6.0	12.0