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水射流技术在集成电路制造工艺中的应用
水射流技术在集成电路制造工艺中的应用
作者:
邱刚
雷玉勇
马超
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
水射流技术
半导体
微细加工
摘要:
半导体器件制造过程中通常采用锯片来切割芯片和封装元件.锯片一般只能切割直线轮廓,对于曲线轮廓或复合层材料,锯片切割会遇到很大的问题.水射流技术作为一种新的加工工艺,被成功引入到半导体制造行业.通过对半导体加工工艺的分析,介绍了水射流切割技术在半导体制造工艺中的应用.研究表明,水射流切割作为一种冷切割工艺,其显著特点是被加工工件没有热影响区,因此加工的半导体器件的机械强度大大提高,而且水射流切割既可以切割直线轮廓,也可以切割曲线轮廓或沟槽.另一方面,由于无切向力存在,器件定位容易,加工轮廓精度高,切割速度快,且对加工材料没有选择性.因此,采用微细水射流切割技术,可以极大地提高半导体器件的产量、质量和可靠性.
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文献信息
篇名
水射流技术在集成电路制造工艺中的应用
来源期刊
半导体技术
学科
工学
关键词
水射流技术
半导体
微细加工
年,卷(期)
2007,(10)
所属期刊栏目
技术专栏(先进工艺技术)
研究方向
页码范围
854-858
页数
5页
分类号
TN305
字数
3911字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-353X.2007.10.008
五维指标
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研究主题发展历程
节点文献
水射流技术
半导体
微细加工
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄179信箱46分箱
邮发代号:
18-65
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
5044
总下载数(次)
38
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