用于大尺寸衍射光栅的光刻胶残余物的灰化系统研制

• 作者: 付绍军 刘良保 周小为 徐向东 洪义麟
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 大尺寸 衍射光栅 辉光放电 灰化
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 真空材料
• 页码范围: 25-27
• 页数: 3页
• 分类号: O461|TB79
• 字数: 1850字
• 语种: 中文

摘要

在制作大尺寸厚基底衍射光学元件时,经常需要清除残余底胶,为此我们研制了大尺寸衍射光栅灰化装置.该装置可以在450mm×450mm(φ650mm)范围内产生均匀性良好的等离子体,通过气体辉光放电来达到去残胶的目的,辉光放电速率可通过调节工作气体的浓度来控制.已用该装置灰化处理了200 mm×400mm×50mm的脉宽压缩光栅.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐向东	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	74	701	15.0	21.0
2	洪义麟	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	56	478	13.0	19.0
3	付绍军	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	69	435	12.0	15.0
4	刘良保	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	1	5	1.0	1.0
5	周小为	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	4	33	3.0	4.0