利用RELACS辅助技术制作"T"型栅

• 作者: 付兴昌 胡玲
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 分辨率增强光刻辅助化学收缩 "T"型栅 i线光刻胶 三层胶结构
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 器件制造与应用
• 页码范围: 748-750
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1858字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2009.08.008

摘要

利用RELACS化学收缩辅助技术制作了i线三层胶结构的"T"型栅.首先利用水溶性的化学收缩试剂RELACS,涂在曝光完成的光刻图形上,然后借由混合烘焙让光刻胶中的光酸分子因受热而产生扩散运动并进入到RELACS试剂内,催化RELACS试剂,让RELACS试剂中的高分子与交链分子产生交链反应,使得光刻胶表面形成新的一层不溶于水的交链层而达到光刻图形收缩的目的.此方法增加了细栅光刻的宽容度,降低了细栅光刻制作的难度,极易将0.5 μm的栅条收缩到0.3μm,甚至更小,不但有效地减小了栅长,而且提高了细栅光刻的成品率.RELACS技术可以应用于不同光刻胶类型的"T",型栅制作中.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付兴昌	中国电子科技集团公司第十三研究所	27	68	5.0	7.0
2	胡玲	中国电子科技集团公司第十三研究所	9	29	3.0	5.0