LED用GaAs抛光片清洗技术研究

• 作者: 吕菲 杨洪星 牛沈军 王云彪 赵权
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 发光二极管 表面颗粒度 金属离子浓度 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 技术专栏(光电器件技术)
• 页码范围: 446-448,458
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.97|TN312.8
• 字数: 2639字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2009.05.013

摘要

伴随着LED照明产业的迅猛发展,高质量的GaAs抛光片需求量日益增大.研究了一种有效的直径5.08 cm低阻GaAs免洗抛光片的清洗技术,采用异丙醇低温超声去蜡结合兆声温法清洗工艺,使晶片表面达到了低表面颗粒度、极低表面金属离子浓度,并形成了较薄的富As氧化层表面.表面颗粒度通过Tencor6220测试大于0.3 μm的颗粒少于10个,通过TXRF测试表面金属离子个数均控制在9×1010/cm2以内;通过台阶仪测量表面粗糙度为0.8 nm,通过偏振光椭圆率测量仪测得均一的2 nm厚表面氧化层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕菲	中国电子科技集团公司第四十六研究所	24	88	6.0	8.0
2	赵权	中国电子科技集团公司第四十六研究所	30	136	6.0	9.0
3	杨洪星	中国电子科技集团公司第四十六研究所	50	145	6.0	8.0
4	牛沈军	中国电子科技集团公司第四十六研究所	6	40	4.0	6.0
5	王云彪	中国电子科技集团公司第四十六研究所	18	49	4.0	5.0