干法刻蚀中静电吸盘对产品良率的影响

• 作者: 董家伟 黄其煜
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 静电吸盘 双极性 夹持电压 偏压补偿 冷却气体
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TN306
• 字数: 2659字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2009.03.008

摘要

在VLSI制造过程中,静电吸盘(ESC)以其良好的热传导性及较少的缺陷产生率已广泛应用于ETCH、CVD等制程中.文章以LAM Research公司TCP9400等离子刻蚀机在多晶硅刻蚀的生产实践为例,分析了这种双极性静电吸盘(bipolar-ESC)的结构特点和其工作原理,并逐一分析了在其使用过程中各参数补偿电压、夹持电压、冷却气体等对产品良率的影响,并提出了对生产过程的监控参数,以达到及时发现问题、解决问题的目的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄其煜	上海交通大学微电子学院	37	221	7.0	14.0