衬底温度对直流磁控溅射法沉积ZnO:Ti薄膜性能的影响

• 作者: 刘汉法 史晓菲 周爱萍 张化福 郭美霞
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO:Ti薄膜 透明导电薄膜 衬底温度 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2011,（1）
• 页码范围: 95-99
• 分类号: O484.1
• 字数: 3292字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2011.01.19

摘要

利用直流磁控溅射工艺,在石英玻璃衬底上沉积出了具有高度C轴择优取向的掺Ti氧化 锌(ZnO:Ti,TZO)透明导电薄膜.研究了衬底温度对TZO薄膜应力、结构和光电性能的影 响.结果表明,衬底温度对TZO薄膜的结构、应力和电阻率有重要影响.TZO薄膜为六角纤锌 矿结构的多晶薄膜.在衬底温度为100℃时,实验获得的TZO薄膜电阻率具有最小值2.95×1 0-4Ω·cm,400℃时薄膜出现孪晶,随着温度的升高,薄膜应力具有减小的趋势.实验制备的TZO薄膜附着性能良好,可见光区平均透过率都超过91%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘汉法	山东理工大学理学院	57	316	11.0	13.0
2	张化福	山东理工大学理学院	52	292	11.0	13.0
3	史晓菲	山东理工大学理学院	5	28	3.0	5.0
4	郭美霞	山东理工大学理学院	8	40	5.0	6.0
5	周爱萍	山东理工大学理学院	17	53	3.0	6.0