双氧水在碱性抛光液中的稳定性研究

• 作者: 刘玉岭 尹康达 李湘 王辰伟
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 双氧水 碱性抛光液 稳定性 氧化剂 材料去除速率
• 年，卷（期）: 2012,（11）
• 所属期刊栏目: 半导体先进制造技术
• 页码范围: 850-854
• 分类号: TN305.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2012.11.006

摘要

氧化剂是铜互连化学机械抛光液的重要组成部分,是决定抛光速率和平坦化效率的重要影响因素.双氧水(H2O2)是抛光液中最常用的氧化剂,其稳定性是评估抛光液性能的重要指标之一,直接关系到抛光液的寿命及其是否可以产业化.针对抛光速率、抛光液的pH值以及抛光后表面质量进行考察,分析了这三方面随抛光液放置时间的变化规律,从而得到H2O2在碱性抛光液中的稳定性规律.实验结果表明,抛光液主要成分的体积分数分别为硅溶胶2.5％、螯合剂1％、氧化剂1％时,抛光液最稳定,寿命可以达到24 h,满足工业化生产要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭	河北工业大学微电子研究所	263	1540	17.0	22.0
2	王辰伟	河北工业大学微电子研究所	80	287	8.0	10.0
3	尹康达	河北工业大学微电子研究所	4	41	3.0	4.0
4	李湘	河北工业大学微电子研究所	1	12	1.0	1.0