半导体技术期刊
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半导体技术

Semiconductor Technology

CAJSTAJSACSTPCD

影响因子 0.3579
《半导体技术》是由信息产业部主管,中国半导体行业协会、半导体专业情报网、中电科技集团公司十三所主办,业内权威的国家一级刊物之一。1976年创刊,它以严谨风格,权威著述,在业内深孚众望,享誉中外,对我国半导体事业的发展发挥了积极作用。“向读者提供更好资讯,为客户开拓更大市场”,是《半导体技术》的追求,本刊一如既往地坚持客户至上,服务第一,竭诚向读者提供多元化的信息。 《半导体技术》是中文核心... 更多
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
期刊荣誉:
中国学术期刊光盘版《CAJ-CD》执行优秀期刊奖(03)  中国科技论文统计用刊  中文核心期刊 
ISSN:
1003-353X
CN:
13-1109/TN
出版周期:
月刊
邮编:
050002
地址:
石家庄179信箱46分箱
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  • 作者: 吴洪江 朱思成 田国平
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  249-253
    摘要: 通过分析砷化镓(GaAs)器件的电离辐射剂量率辐照机理和效应,结合电路结构,描述了砷化镓10 bit数模转换器(DAC)的电离辐射剂量率辐射效应、抗辐射设计和辐照实验.在电路设计上,10 b...
  • 作者: 俞跃辉 夏超 宋朝瑞 徐大伟 王中健 程新红
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  254-257
    摘要: 针对600 V以上SOI高压器件的研制需要,分析了SOI高压器件在纵向和横向上的耐压原理.通过比较提出薄膜SOI上实现高击穿电压方案,并通过仿真预言其可行性.在埋氧层为3μm,顶层硅为1.5...
  • 作者: 唐红祥 孙向东 孙永生 曹亮 计建新
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  258-262
    摘要: 介绍了当前绝缘栅双极晶体管(IGBT)的几种结构及沟槽型IGBT的发展现况,分析了高电压沟槽型非穿通(NPT) IGBT的结构及工艺特点.通过理论分析计算出初步器件的相关参数,再利用ISE仿...
  • 作者: 李庆忠 翟靖
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  263-266,311
    摘要: 使用硅溶胶、pH值调节剂、表面活性剂和氧化剂等组分配制抛光液,通过超声波发生器雾化后,在负压下导入抛光区域界面进行CMP实验,并在相同的抛光参数下,与SSP-L抛光液常规抛光进行了比较.结果...
  • 作者: 刘卫丽 宋志棠 张泽芳
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  267-270
    摘要: 在LED制造工艺中,金刚石研磨液是一种关键的耗材,用于蓝宝石衬底的研磨和外延片的背减薄,但目前金刚石研磨液均以有机物作为分散介质.采用水为分散介质、多晶金刚石微粉为磨料,在相同研磨条件下,研...
  • 作者: 刘冬华 段文婷 胡君 钱文生 陈帆 陈雄斌
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  271-275
    摘要: 介绍了一种集成在BiCMOS工艺的p-i-n开关二极管的器件.它由在STI下面的n型赝埋层作为p-i-n的n区,锗硅npn异质结双极型晶体管的重掺杂外基区作为p-i-n的p区.同时新开发了穿...
  • 作者: 刘英坤 杨瑞霞 贾素梅 邓建国 高渊
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  276-279,304
    摘要: 介绍了多晶硅发射极双台面SiGe/Si异质结双极晶体管制作工艺流程.通过对LPCVD在n型Si衬底上外延生长SiGe合金层作为异质结双极晶体管基区、自中止腐蚀工艺制作发射区台面、多晶硅n型杂...
  • 作者: 付兴昌 潘宏菽
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  280-283
    摘要: 采用自主开发的4H-SiC高温氧化技术,并结合低压化学气相淀积方法,在器件表面形成较为致密的氧化层,降低了器件的反向泄漏电流,提高了器件的击穿电压,同时也提高了器件的输出功率及功率增益,为器...
  • 作者: 冯志红 刘波 尹甲运 房玉龙 盛百城 袁凤坡
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  284-287,298
    摘要: 采用金属有机气相外延(MOCVD)方法在(0001)面蓝宝石衬底上生长了AlN和高铝组分AlGaN材料.通过优化AlN和AlGaN材料的生长温度、生长压力和Ⅴ族元素/Ⅲ族元素物质的量比(nⅤ...
  • 作者: 刘正堂 徐晓兵 焦岗成 石峰 胡仓陆
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  288-290,325
    摘要: 用分子束外延方法制备了具有GaInAs组分渐变缓冲层和不具有GaInAs组分渐变缓冲层的Ga0.9In0.1As/GaAs结构的外延材料.利用高分辨率X射线衍射法(HRXRD)对制备的两种样...
  • 作者: 世娟 王胜福 许悦 鲁国林
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  291-294,311
    摘要: 提出了一种新型超宽带( UWB)小型化微带滤波器.这种结构采用多个短路支节并联于主传输线上,短路支节长度为四分之一波长.采用一种新型等效电路对其进行分析、模拟,其中的主传输线、并联支节线以及...
  • 作者: 王抗旱
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  295-298
    摘要: 采用公共支路、发射支路、接收支路和电源调制及控制电路,设计制作了一种X波段大功率T/R组件.在组件中,利用低温共烧陶瓷(LTCC)基板实现了多层互连,采用Wilkinson功率合成器实现了大...
  • 作者: 刘昌 孔凡敏 李康
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  299-304
    摘要: DE类功率放大器既综合了D类和E类功率放大器的优点,继承了开关型功率放大器高效率的特征,又同时避免了D类和E类功率放大器的缺陷,使其成为了人们关注和研究的热点.随着工作频率的升高,MOSFE...
  • 作者: 王亮 胡静涛
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  305-311
    摘要: 针对化学机械研磨(CMP)过程非线性、时变和不易在线测量的特性,提出了基于径向基函数(RBF)神经网络和微粒群( PSO)算法的CMP过程run-to-run (R2R)预测控制器NNPR2...
  • 作者: 崔泽英 谷青博
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  312-315
    摘要: 光衰是反映LED性能的重要指标,而LED的光衰是一个很漫长的过程,用实测数据描绘光衰曲线是不现实的.通过对LED光衰的原因、现象进行分析,在封装材料的功能退化符合阿伦尼乌斯定律的前提下,推出...
  • 作者: 祁建华
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  316-320
    摘要: 集成电路“轻、薄、小”的趋势使新封装技术在产业中不断得以应用.晶圆凸点工艺作为新封装技术的关键工序尤为重要,相应的凸点晶圆测试方案是产业面临的现实问题.针对凸点晶圆测试中出现的新问题和技术难...
  • 作者: 彭浩 童亮 高金环 黄杰
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  321-325
    摘要: 为了在尽量短的时间内对S波段硅微波功率晶体管的长期可靠性进行研究,依据温度应力阿列尼乌斯(Arrhenius)模型,进行了两种S波段硅微波功率晶体管的可靠性寿命评价试验.试验采用步进应力加速...
  • 作者:
    刊名: 半导体技术
    发表期刊: 2012年4期
    页码:  328,326-327
    摘要:

半导体技术基本信息

刊名 半导体技术 主编 赵小宁
曾用名
主办单位 中国电子科技集团公司第十三研究所  主管单位 中华人民共和国工业和信息化部
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1003-353X CN 13-1109/TN
邮编 050002 电子邮箱 bdtj1339@163.com
电话 0311-87091339 网址
地址 石家庄179信箱46分箱

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