高功率脉冲磁控溅射制备TiNx涂层研究

• 作者: 但敏 尹星 杨发展 沈丽如 许泽金 金凡亚
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 高功率脉冲磁控溅射 TiN 显微硬度 XRD 摩擦磨损
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文

摘要

采用高功率复合脉冲磁控溅射技术(HPPMS)在316不锈钢、硬质合金基体上沉积了TiN薄膜,研究不同N2流量下TiNx膜层的沉积速率、硬度、晶体生长取向、摩擦磨损等性能,并在相同的平均靶电流下与直流磁控溅射制备的TiN薄膜对比.结果表明:HPPMS制备的膜层更加致密,在氩氮流量比为7.4∶1时膜层显微硬度达2470 HV,晶粒尺寸也明显小于直流磁控溅射制备的TiN,摩擦磨损性能也得到了改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金凡亚		57	226	8.0	12.0
2	沈丽如		52	377	11.0	16.0
3	但敏		28	57	4.0	5.0
4	杨发展		10	57	5.0	7.0
5	许泽金		8	23	3.0	4.0
6	尹星		5	5	1.0	2.0