布线图案导致的集成电路平坦化损伤研究

• 作者: 潘国顺 郭丹 郭玉龙 雒建斌
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 集成电路制造 平坦化损伤 低k介质 互连结构 抛光下压力
• 年，卷（期）: 2014,（7）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 61-66
• 页数: 6页
• 分类号: TN305
• 字数: 4766字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2014.07.015

摘要

使用化学机械抛光（CMP）的方式，对商用芯片进行拆解，获得了不同制造工艺的铜/低 k 介质互连结构样品。通过对所获得的32 nm制造工艺的铜/低k介质互连结构样品进行进一步的化学机械抛光实验来研究抛光过程中出现的损伤。实验结果发现，抛光压力过大和过小分别会造成宏观缺陷和导线腐蚀，互连线的分布会导致导线自身的碟型缺陷、不同图案布线结构交界两侧明显的表面高度差异以及同一图案布线结构内部的表面周期性高度起伏。这种表面高度差异可以通过预补偿的方式得到一定的改善。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭丹	清华大学摩擦学国家重点实验室	27	337	9.0	18.0
2	潘国顺	清华大学摩擦学国家重点实验室	27	358	12.0	18.0
3	雒建斌	清华大学摩擦学国家重点实验室	96	1802	22.0	37.0
4	郭玉龙	清华大学摩擦学国家重点实验室	1	1	1.0	1.0