磁控溅射中旋转阴极的对角效应及其解决途径

• 作者: 余华俊 赵习军 武瑞军
• 来源期刊: 真空
• 关键词: 磁控溅射 不对称溅射 靶材利用率 对角效应
• 年，卷（期）: 2021,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜|Thin Film
• 页码范围: 51-54
• 页数: 4页
• 分类号: TB79
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2021.03.10

摘要

对角效应是一种存在于磁控溅射中,由于阳极的不对称分布而引起的一种不对称刻蚀的现象,表现为靠近阳极的一侧溅射跑道沿着霍尔电流方向的转角刻蚀明显增强,而另一侧对应转角刻蚀相对较弱,如为双靶时,表现为沿对角线方向刻蚀增强的现象,导致靶材的不均匀刻蚀及靶材利用率降低.文章研究了这种现象,对其成因进行了分析,并进一步阐明了如何避免这种效应影响的方法.