电子工业专用设备期刊
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电子工业专用设备

Equipment for Electronic Products Manufacturing

影响因子 0.2109
本刊为国内外公开发行的技术性刊物,以报道半导体设备及半导体产业链技术与材料为主要方向,以“公布新的科技成就,传播科技信息,交流学术思想,促进科技成果的商品化、产业化,为建设社会主义精神文明与物质文明服务”为本刊的为刊方针。发挥传媒优势,全方位服务于微电子行业的广大科技工作者。
主办单位:
中国电子科技集团公司第四十五研究所
期刊荣誉:
2001~2002年度标准化规范化部级奖  获2003~2004年度出版质量部级奖 
ISSN:
1004-4507
CN:
62-1077/TN
出版周期:
双月刊
邮编:
100029
地址:
北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室
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  • 作者: 姜培青 康仁科 王彩玲 郭东明
    发表期刊: 2008年8期
    页码:  48-52
    摘要: CMP(Chemical Mechanical Polishing)设备是半导体集成电路(IC)制造中的关键设备,CMP设备控制软件的开发是CMP设备研发的关键技术之一.在分析三工位CMP设...
  • 作者: 杨道虹
    发表期刊: 2008年8期
    页码:  53-56
    摘要: 集成电路被称为"电子工业之母",全球各个国家都高度重视集成电路产业的发展,并在产业的发展中探索各自的技术创新模式.从技术创新模式的内涵出发,总结了美国、日本、韩国、中国台湾等发达国家和地区集...
  • 作者:
    发表期刊: 2008年8期
    页码:  57-60
    摘要:
  • 作者:
    发表期刊: 2008年8期
    页码:  61-66
    摘要:
  • 作者:
    发表期刊: 2008年8期
    页码:  67-76
    摘要:
  • 作者: 姚舟波 张文娟 牛晓丽 王李 龙绪明
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  1-6
    摘要: 基于LabView设计SMT视觉检测系统,主要完成电路板的光板检测,元器件模板匹配检测和表面焊点检测等功能,具有智能化和模块化的优点.
  • 作者: 周国安 柳滨 王学军 詹阳
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  7-10
    摘要: 终点检测是化学机械平坦化的关键技术,它决定着理想的平坦运行的停止点,在以纳米级别的控制上,终点检测尤为重要.目前主要的两种终点检测方法:电机电流存在着误判断,而可见光干涉存在着光蚀效应等.低...
  • 作者: 张明容 曹中
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  11-14
    摘要: 针对自动光学检测(AOI)在手机软板缺陷检测中对检测精度的要求比较高的特殊性,研究了手机软板模版图像的生成和图像定位的方法.根据手机软板模版的特点,提出了用CAD图生成的多模版来进行匹配的方...
  • 作者:
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  15-17
    摘要: 计量室为精密测量提供了良好环境.但其缺点是计量室、测量机和稳定温度的成本太高.随着对大批量生产的控制要求越来越高.因此要求测量机必须更接近实际生产位置.这就是生产型测量.生产型测量可使测量结...
  • 作者: 童志义
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  18-25
    摘要: 综述了进入后摩尔时代半导体业界面临制造技术极限的挑战所进行的各种应对措施的现状,着重介绍了叠层封装、系统级封装、晶圆级封装、硅通孔技术等一些新型的三维垂直封装技术在电子电路集成方面的进展及高...
  • 作者: 杨道虹
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  26-29,34
    摘要: 从产业自主创新生态系统的内涵出发,从政策法律环境、市场环境、资源支撑体系和企业技术创新能力等4个方面构建了我国集成电路产业自主创新生态系统,并从构成要素、运行机制、基本功能等方面进行了系统分...
  • 作者: 史建卫 李明雨 李辉 熊振山 谢军
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  30-34
    摘要: 无铅波峰焊接工艺相比有铅波峰焊接工艺显得复杂和难以控制.通过采用DOE和波峰焊工艺分析相结合的方法,设计无铅波峰焊工艺,大大降低了缺陷率,提高了无铅波峰焊接质量,在生产实践中具有很大的指导意...
  • 作者:
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  35-43
    摘要: 对于许多单双芯片的MOSFET封装于像SC-70、SOT-2X、TO-252、SOP-8L、TSSOP-8L、QFN等形式的器件来说,标准的固晶工艺如:银浆、软焊料加上金丝、铝丝焊的工艺方法...
  • 作者: 朱桂兵
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  44-48
    摘要: 主要讨论了焊接缺陷在电子产品SMT制造工艺中的成因.以整个SMT制造工艺为研究范畴,通过几个设定的仿真实验,从模板制作、焊膏选择、印刷工序、焊接工序、贴片工序等角度,以一个常见缺陷桥连为研究...
  • 作者:
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  49-52
    摘要: 对于超薄、分离的大功率半导体器件,其背面金属粘附以及焊料接点的要求近几年有了显著地提高.为了对硅片表面提供一种最佳化的背面金属粘附接触,需要指定一种定制的背面硅型、电阻率、掺杂层以及淀积金属...
  • 作者: 孟晓华 葛劢冲
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  53-54
    摘要: 概述了精密丝网印刷技术工艺和用途,介绍了设备的发展历程、结构特点及工作原理,预测了技术设备今后的发展趋势.
  • 作者: 康建兵
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  55-60
    摘要: 在等离子屏、LCD、TFT等平板显示器生产电子工业领域中.曝光显影是生产工艺中的重要组成部分.由于各类显影废液中含有多种化学成分和昂贵的工业原料,因此进行显影废液的处理与再生对生产成本的控制...
  • 作者:
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  60-70
    摘要:
  • 作者:
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  71-77
    摘要:
  • 作者:
    发表期刊: 2008年9期
    页码:  78
    摘要:
  • 作者: 徐端颐 范晓冬 蒋培军 齐国生
    发表期刊: 2008年10期
    页码:  1-9
    摘要: 介绍一种以显微镜结构为基础的浸没式阵列激光扫描直写光刻系统的光路结构、有效焦深、自动调焦及曝光能量控制的原理和方法.实验系统的有效数值孔径(ENA)为1.83,使用的激光波长为355 mm时...
  • 作者: 刘俊标 张福安 方光荣 薛虹 靳鹏云 顾文琪
    发表期刊: 2008年10期
    页码:  10-13
    摘要: 基于扫描电镜(SEM)的纳米级电子束曝光系统能够以较低成本满足科研单位对纳米加工设备的需求.在电子束曝光系统中,需要快速束闸控制电子束通断以实现纳米图像的多场曝光.从安装位置、机械结构和驱动...
  • 作者: 严伟 周绍林 唐小萍 杨勇 胡松 蒋文波 赵立新 陈旺富
    发表期刊: 2008年10期
    页码:  14-19
    摘要: 随着器件特征尺寸的继续缩小,所需掩模的成本呈直线上升态势,为降低掩模成本,无掩模光刻技术成为人们研究的热点.介绍了一种基于DMD的步进式无掩模数字曝光方法,并对用于实现该曝光方法装置的设计方...
  • 作者: 《电子工业专用设备》编辑部
    发表期刊: 2008年10期
    页码:  20-27
    摘要: 介绍了半导体产业在制造极限的技术路线选择方面,下一代光刻技术-极紫外光刻设备面临的挑战及其开发和技术应用的进展现状.指出了在未来的22 nm技术节点极紫外光刻进入量产的可能性.
  • 作者: 杨兴平 韦俊
    发表期刊: 2008年10期
    页码:  28-35
    摘要: 通过对双频激光干涉仪的原理、结构、双频产生机理进行分析,阐述激光干涉仪在光刻设备中的实际应用,探讨激光干涉仪技术.
  • 作者: 史建卫 李明雨 杨冀丰 柴勇 王晓敏
    发表期刊: 2008年10期
    页码:  36-42,60
    摘要: 分析了影响通孔填充性的因素,包括PCB的设计因素和波峰焊接工艺因素.其次运用试验设计方法研究了通孔填充性与众多因素的关系,对试验结果的方差分析表明影响通孔填充性的显著因子有PCB的板厚、锡炉...
  • 作者: 周国安 柳滨 王学军 种宝春
    发表期刊: 2008年10期
    页码:  43-45,55
    摘要: 分析了铜电连接在今后晶片制造中的主导作用,阐述了铜布线的结构,即在由钽作为阻挡层及采用电镀铜形成的电连接的情况下,抛光规律符合经典普莱斯顿方程:在粗抛磨料采用氧化铝,精抛配比采用武亚红提出的...
  • 作者: 李军阳 禹庆荣 陈特超
    发表期刊: 2008年10期
    页码:  46-48
    摘要: 介绍等离子体化学气相淀积(PECVD)制备减反射钝化膜.将PECVD设备运用于太阳电池生产线上,发现通过PECVD设备可以对多晶硅太阳电池有很好的钝化效果.分析PECVD对多晶硅太阳电池钝化...
  • 作者: Fred Dimock 盛金龙
    发表期刊: 2008年10期
    页码:  49-52
    摘要: 对于大批量生产和处理一致性以及精确控制的工艺要求,连续炉是理想的.详述了一些新式的连续炉温度和性能并介绍了一种不同元件组成的连续炉.根据炉子工艺技术,经济因素和零件质量因素的影响决定了是采用...
  • 作者: 刘同娟
    发表期刊: 2008年10期
    页码:  53-55
    摘要: FIB-SEM-Ar"三束"显微镜在FIB/SEM装置的平台上附加了降低样品损伤的低能Ar离子枪,首次实现了通过一台仪器完成高质量的透射电子显微镜TEM的样品制备.简化了样品整个加工的过程,...

电子工业专用设备基本信息

刊名 电子工业专用设备 主编 赵璋
曾用名
主办单位 中国电子科技集团公司第四十五研究所  主管单位 中国电子科技集团
出版周期 双月刊 语种
chi
ISSN 1004-4507 CN 62-1077/TN
邮编 100029 电子邮箱 faith_epe@sohu.net
电话 010-64443110,64655251 网址 www.chinaepe.com.cn
地址 北京市朝阳区安贞里三区26号浙江大厦913室

电子工业专用设备评价信息

期刊荣誉
1. 2001~2002年度标准化规范化部级奖
2. 获2003~2004年度出版质量部级奖

电子工业专用设备统计分析

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