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19905

真空科学与技术学报

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Chinese Journal of Vacuum Science and Technology

曾用名：真空科学与技术

CA CSCD JST CSTPCD

影响因子 0.3586

本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。

主办单位：

中国真空学会

ISSN：

1672-7126

CN：

11-5177/TB

出版周期：

月刊

邮编：

100022

地址：

北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

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热门刊内文献

年度刊次

1. 特大型空间环境试验设备的超高真空获得技术

作者：刘国青张春元成致祥黄本诚

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 1-4

摘要：介绍了我国新近研制成功的一台特大型空间环境试验设备的超高真空获得技术。该设备在3200 m3空间内获得了4.5×10-6 Pa的极限真空，为大型航天器研制做出了贡献。也是我国真空获得技术的一...
2. 不同衬底上低温生长的ZnO晶体薄膜的结构及光学性质比较

作者：吴惠桢徐晓玲邱东江金进生

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 5-8

摘要：采用电子束反应蒸发方法，在单晶Si(001)及玻璃衬底上低温外延生长了沿c轴高度取向的单晶ZnO薄膜,并对沉积的ZnO晶体薄膜的结构和光学性质进行了分析比较。通过对ZnO薄膜的X射线衍射(X...
3. SnO2和SnO2-Ag薄膜的电学特性

作者：于中尧李建平王利王悦高晓光

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 9-13

摘要：用磁控溅射法在集成了铂加热电极的Si基膜片型微结构单元上制备了SnO2和SnO2-Ag敏感薄膜。用温度调制方式和锯齿波加热方式研究了薄膜的电学特性，讨论了银催化剂、湿度及氧分压对SnO2电学...
4. 一种便捷的新型矩形偏转线圈的设计方法

作者：屠彦张雄汤勇明

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 12-25

摘要：针对新型矩形偏转线圈的设计提出了一种简单新颖的设计方法。该方法不仅可以避免复杂的三维电磁场计算和优化，而且还可以利用现有的旋转对称偏转线圈的计算结果，因此可节省大量的时间。此外，该方法不仅可...
5. X光照引起的Cu 2p3／2光电子峰位移及酞菁铜分子内的电荷转移

作者：季振国汪茫袁骏许倩斐郭伟民阙端麟

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 14-16

摘要：用光电子谱研究了X光辐照下酞菁铜分子内的电荷转移情况。通过改变X光源的功率，发现高功率下Cu 2p3／2的光电子峰相对于低功率下的Cu 2p3／2峰有0.11 eV的位移。由此推断在X光辐照...
6. 一种快速有限单元法及其在三维磁场计算中的应用

作者：尹涵春屠彦张雄汤勇明童林夙

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 17-20

摘要：针对大容量三维磁场的计算机模拟提出了一种快速有限单元法，通过用索引的方式进行刚度矩阵的计算与存储，大大节省了计算所需内存，采用超松驰迭代法进行求解，在大容量方程组的求解上大大快于上下三角(L...
7. a-SiNx∶H薄膜的导电机制

作者：岳瑞峰王燕

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 26-29

摘要：研究了a-SiNx∶H薄膜的电导激活能与氮含量的关系。结果表明，随氮含量增加，样品表现出两种并行的电导机制：欧姆机制与Poole-Frenkel机制。采用两种电导机制拟合电流随温度变化曲线后...
8. 21世纪中国真空科技产业发展战略研讨会

作者：

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 29

摘要：
9. Waveguide-surfatron型表面波等离子体源的特性研究

作者：吴丛凤周海洋朱晓东温小辉詹如娟

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 30-33

摘要：报道了所研制的Waveguide-surfatron型表面波等离子体源的特性，理论计算表明，激发表面波模式为m≥l模，在放电室中电磁场均匀性与等离子体的密度有关。实验结果指出，采用Ar气放电...
10. 铌离子注入改善铝表面的力学性能

作者：李彬柳百新苗伟陶琨

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 34-37

摘要：利用金属蒸气真空弧离子源，将大束流Nb离子注入到铝中，改善了铝表面的力学性能。在离子注入过程中直接形成了金属间化合物Al3Nb。金属间化合物的形成与离子注入的剂量有关。当Nb离子剂量达到3×...
11. 高温退火前后低碳含量a-SiCx∶H薄膜结构和荧光特性的研究

作者：岳瑞峰王燕

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 38-42

摘要：采用Raman光谱，结合光致发光和X射线衍射测量对富硅a-SiCx∶H薄膜的结构及荧光特性进行了详细研究。结果表明，刚制备的样品中由于硅和碳原子的电负性和原子尺寸的差异，出现了化学集团效应，...
12. HT-7托卡马克氘丸注入实验研究

作者：夏承遗杨愚程永飞辜学茂高翔

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 43-46,66

摘要：简要介绍了用于国家中型超导托卡马克装置HT-7弹丸注入系统；详细阐述了在HT-7装置首次用于加料实验的氘(D2)丸的成冰工艺、氘丸注入实验以及氘丸注入对等离子体产生的影响；研究了等离子体的密...
13. 氮化硅窗口在大气环境软X射线接触成像中的应用研究

作者：傅绍军徐向东洪义麟蒋诗平陶晓明霍同林

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 47-50

摘要：成功地研制了将软X射线引入大气中的氮化硅窗口。根据具体数据，对大气环境下软X射线接触成像的水窗软X射线衰减进行了估算；给出成像实验结果并观察到了氮化硅膜上的微粒图像叠加在样品图像上的现象。所...
14. 氮化硅介质薄膜内应力的实验研究

作者：于映陈跃

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 51-54

摘要：研究了等离子体增强化学气相沉积氮化硅介质薄膜的内应力。采用钠光平面干涉测量了氮化硅薄膜内应力，通过改变薄膜沉积时的工艺参数，考察了反应气体流量比、沉积温度、射频功率密度等因素对氮化硅薄膜内应...
15. 中国真空学会五届六次常务理事扩大会会议纪要

作者：

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 54

摘要：
16. 正压漏孔校准装置

作者：冯焱张建军张涤新李得天许珩龚月莉

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 55-59

摘要：正压漏孔校准装置是校准气体漏率的计量标准，可采用定容法和定量气体动态比较法对正压漏孔进行校准，校准范围为1×102～5×10-5Pa.L／s。
17. PECVD非晶SiOx∶H薄膜的Si—O—Si键红外吸收特性研究

作者：何乐年

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 60-63

摘要：用傅里叶红外光谱(FT-IR)测试分析了等离子体化学气相沉积法沉积的非晶SiOx∶H(0≤x≤2.0)薄膜中的Si— O —Si伸缩振动模与氧含量x的关系。Si— O —Si伸缩振动模在10...
18. 无氧铜基金刚石薄膜场致发射特性研究

作者：季天仁曾葆青杨中海杨崇峰谢扩军黄金源

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 64-66

摘要：采用微波等离子体方法在铜片上沉积了多晶金刚石薄膜，用该薄膜制成的场致发射体的开启电压较低，发射电流密度较高。利用自制的场致发射阵列阴极高真空测试台测试了1～100 mA／cm2的发射电流密度...
19. 等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中光发射谱和朗谬尔探针原位诊断

作者：周海洋朱晓东温晓辉詹如娟

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 67-70

摘要：报道了利用光发射谱(OES)和朗谬尔探针对热阴极直流放电等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的等离子体条件进行原位研究的部分结果，研究了几种过程参数变化中等离子体状态，并与金刚石膜的沉积相联系。当...
20. WC-Co硬质合金表面不同去钴预处理方法的比较研究

作者：丁振峰俞世吉邬钦崇马腾才

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 71-73,70

摘要：用微波等离子体化学气相沉积(MWPCVD)制备金刚石薄膜涂层之前，采用盐酸、硝酸化学腐蚀和氢-氧等离子体对WC-Co硬质合金(YG6)基体表面进行去钴预处理。扫描电子显微镜形貌观察和X射线衍...
21. 大面积YBCO高温超导双面薄膜的生长研究

作者：何世明刘兴钊李言荣罗安陶伯万

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 74-76

摘要：采用倒筒式直流溅射(ICS)方法，辐射方式加热基片，通过电机带动基片旋转，在两面同时溅射沉积YBCO高温超导双面薄膜。在加热温度为850 ℃，总压强为35 Pa，氧氩比为1∶2，靶基距50 ...
22. 芦荟冻干研究

作者：周永安

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 77-78,82

摘要：对新鲜芦荟叶进行了真空冷冻干燥处理，并研究了它的物化性能。结果表明，它的主要营养成分得到了很好的保存。与新鲜芦荟相比，干燥芦荟具有很多优点，如易于储存、运输，并能用于某些食品、药物和化装品的...
23. 锁定放大技术用于扫描隧道显微镜

作者：唐天同宋建平曹建章陈国瑞陈民新

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年1期

页码: 79-82

摘要：介绍了锁定放大技术应用于扫描隧道显微镜(STM)中调制隧道间隙而获得物质表面原子的局域势垒分布的原理，并给出了高定向石墨的观测结果，与恒电流模式下STM图像相比较，具有分辨率高、针尖的影响小...
24. Si3N4/Si表面Ge生长过程的STM研究

作者：唐景昌汪雷王学森胡艳芳

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年2期

页码: 83-86

摘要：利用STM和LEED分析了Ge在Si3N4/Si(111)和Si3N4/Si(100)表面生长过程的结构演变。在生长早期，Ge在两种衬底表面上都形成高密度的三维纳米团簇，这些团簇的大小均在几...
25. 纳米晶粒Ag-TCNQ络合物薄膜的制备及电双稳特性

作者：严学俭华中一叶钢锋张群潘钢章壮健

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年2期

页码: 83-86,98

摘要：以物理气相沉积方法将TCNQ和Ag制备的金属有机络合物薄膜，在一定的工艺条件下可做到构成薄膜的晶粒直径为40 nm左右，粗糙度也为纳米量级。同时在大气及室温条件下，在STM电场的作用下薄膜可...
26. 纳米粒子在气体流动中的团聚过程研究

作者：张世伟杨乃恒

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年2期

页码: 87-90

摘要：采用气相合成法制备纳米微粉时，由反应合成区生成的纳米微粒在随气流流向收集装置的过程中，因相互碰撞、粘附而发生团聚现象，形成较大的颗粒。本文论述了团聚现象发生的原因，借用气体分子动力学理论，计...
27. 用于彩色交流等离子体显示板的Ne-Ar-Xe混合气体的研究

作者：孙鉴罗亦麟胡文波

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年2期

页码: 95-98

摘要：由氖(Ne)氙(Xe)气体混合组成的放电气体使彩色交流等离子体显示板(AC-PDP)具有着火电压低，亮度、光效高的优点，但激发态氖原子发出的橙红色可见光对荧光粉发光的色纯影响很大。通过对充入...
28. 等离子体浸没离子注入球形靶的鞘层尺度

作者： Paul K.Chu 田修波

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年2期

页码: 99-104

摘要：对于等离子体浸没离子注入(PIII)技术，球形靶鞘层尺度预测对真空室设计、批量处理研究等是十分有用的。但由于球形靶鞘层Child-Langmuir定律数学表达的非线性使得工程应用较为困难。本...
29. 中国真空学会真空科技成就奖章程(2001年2月)

作者：

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年2期

页码: 104

摘要：
30. 偏转磁芯铁氧体材料的磁滞损耗分析

作者：单德悦尹涵春张晓兵

刊名：真空科学与技术学报

发表期刊： 2001年2期

页码: 105-108,149

摘要：对偏转磁芯所采用的铁氧体材料的磁滞损耗特性进行了分析，得出了磁滞损耗功率与频率、磁通密度和温度的经验公式。对磁滞回线中涡流的影响进行了分析，得出在目前应用的偏转频率下，磁芯损耗中磁滞损耗占主...

真空科学与技术学报基本信息

刊名	真空科学与技术学报	主编	吴锦雷
曾用名	真空科学与技术
主办单位	中国真空学会	主管单位	中国科学技术协会
出版周期	月刊	语种	chi
ISSN	1672-7126	CN	11-5177/TB
邮编	100022	电子邮箱	vst@chinesevacuum.com
电话	010-58206280	网址
地址	北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室