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真空科学与技术学报期刊
出版文献量（篇）
4084
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真空科学与技术学报

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology
曾用名： 真空科学与技术

CACSCDJSTCSTPCD

影响因子 0.3586
本刊是全国中文核心期刊，长期被EI、CA、SA等国际蓍名检索系统收录，已全文上网。本刊通过中国图书贸易总公司代理向国外发行。目前在美国、英国、德国、荷兰及我国的香港与台湾地区均有订阅，有一定的影响力。在国内各高等院校科学院所涉及到真空科学与技术论文都大多数向本刊投稿，已成为国内外关学者发表高水平科研成果的主要载体。
主办单位：
中国真空学会
ISSN：
1672-7126
CN：
11-5177/TB
出版周期：
月刊
邮编：
100022
地址：
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
出版文献量（篇）
4084
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3
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  • 31. 用射频磁控溅射法在二氧化硅衬底上制备磁光Ce∶YIG薄膜
    作者： 兰中文 孔祥栋 王巍 王豪才 秦跃利 高能武
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  116-119
    摘要： 使用射频磁控溅射法在非晶态的二氧化硅衬底上制备Ce1YIG磁光薄膜.生成的Ce1YIG薄膜为非晶态形式,经过后续的热处理过程,转变为晶化薄膜,在用波长为630 nm的激光测量时,薄膜的饱和法...
  • 32. 采用金属镓层氮化技术在石英衬底上生长多晶GaN
    作者： Nasser N.Morgan 叶志镇 赵炳辉 邵庆辉 顾星 黄靖云
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  120-122
    摘要： 随着多晶GaN材料发光研究的不断深入,大面积、价格低廉的多晶GaN基光电器件的研制已成为工业生产中一个重要的研究领域.石英玻璃以其自身特有的优势,成为生长多晶GaN材料的较为理想的衬底.本文...
  • 33. 离子束辅助沉积Al2O3薄膜的微观状态及其物理特性研究
    作者： 张庆瑜 徐久军 朱剑豪 王亮 王平生 赵文军
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  123-128
    摘要： 本文利用透射电子显微镜、原子力显微镜、X光电子能谱等微观分析手段,系统研究了氧离子束辅助离子束沉积方法制备的Al2O3薄膜的化学成分、微观结构、表面形貌及其随退火温度的变化,并对Al2O3薄...
  • 34. 氧压对PLD法硅上生长c轴取向LiNbO3晶体薄膜的影响
    作者： 何军辉 卢焕明 叶志镇 王新昌 赵炳辉 顾星 黄靖云
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  129-131,135
    摘要： 本文采用脉冲激光沉积(PLD)法在Si衬底上生长c轴取向LiNbO3(LN)晶体薄膜,研究氧气压强对薄膜质量的影响.结果表明,氧压是生长c轴择优取向LN薄膜的一个重要影响参数.X射线衍射和透...
  • 35. 中频反应磁控溅射TiO2薄膜对敌敌畏的光催化降解性能
    作者： 刘家浚 吴敏生 庄大明 张弓 方玲 赵明
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  132-135
    摘要： 作者利用中频反应磁控溅射技术制备了厚度低于400 nm的TiO2薄膜,并对其在紫外线作用下对敌敌畏(DDVP)的光催化降解性能进行了系统的研究.实验结果显示:敌敌畏的降解速率与光照时间和紫外...
  • 36. O型圈的原子氧剥蚀效应实验研究
    作者： 周汝胜 张建斌 邵新杰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  136-139
    摘要： 通过对O型圈的原子氧暴露实验研究,发现经过原子氧作用后,O型圈的表面粗糙度和质量损失率均随原子氧等效累积通量的增大而增大.
  • 37. 微波集成电路(MIC)中Au/NiCr/Ta多层金属膜粗糙化机理的AFM研究
    作者： 唐武 徐可为 李弦 王平
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  140-142
    摘要： Au/NiCr/Ta多层金属膜通过磁控溅射沉积在Si(111)基片上.XRD分析其晶体取向,SEM观察薄膜断面形貌,AFM研究薄膜表面粗糙度.结果表明薄膜表面粗糙度与沉积温度有关,随着沉积温...
  • 38. CPT管壳在排气炉内炸裂的原因分析
    作者： 戚长政
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年2期
    页码:  143-146
    摘要： 本文建立了CPT管壳有限元计算模型,以计算的机械应力和热应力为依据,分析了CPT管壳在排气炉内炸裂的原因,为合理制定在排气过程中升、降温工艺路线,正确设计CPT管壳等提供了参考依据.
  • 39. 基片与膜厚对硬质薄膜力学性能的影响
    作者： 张惠娟 戴嘉维 李戈扬
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  147-151
    摘要： 采用毫牛力学探针技术的两步压入试验法研究了高速钢和不锈钢基片上不同厚度TiN薄膜的硬度和弹性模量.结果表明:采用同样工艺制备的TiN薄膜,其力学性能随基片类型和膜厚的不同有明显变化.薄膜的硬...
  • 40. 提高彩色PDP显示灰度等级的准延伸编码方法
    作者： 孙鉴 梁宁 沈思宽
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  152-155
    摘要： 为了解决延伸编码在消除动态假轮廓时存在显示灰度等级不够和需要子场数目多的不足,从动态假轮廓的成因入手,吸取延伸编码和常规编码的长处,提出了准延伸编码方法,该方法能够使用较少的子场数目来提高P...
  • 41. 彩色PDP运动图像动态假轮廓的评测方法--动态积分法
    作者： 刘纯亮 梁志虎 石铁岭 魏巍
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  156-160
    摘要： 采用ADS方法来实现灰度显示的等离子体显示器(PDP),在显示运动图像时会出现动态假轮廓现象;定量评测动态假轮廓的方法很少,而且现有的方法还存在着缺陷.本文根据动态假轮廓的产生原因以及人眼的...
  • 42. 退火对反应磁控溅射制备ITO薄膜性能影响
    作者： 许旻 贺德衍 邱家稳
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  161-164
    摘要： 采用铟锡合金靶(铟-锡,90-10),通过直流反应磁控溅射在玻璃基片上制备出ITO薄膜,并在大气环境下高温退火处理.研究了退火温度对薄膜结构、光学和电学性能的影响.研究表明,随着退火温度升高...
  • 43. 退火气氛与扩散阻挡层对Cu膜表面完整性的影响
    作者： 宋忠孝 徐可为 陈华
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  165-168
    摘要： 用反应磁控溅射和离子束辅助沉积(IBAD)方法分别在(111)单晶硅基体上沉积了Cu/ZrSiN与Cu/ZrN膜系,制得的试样在800 ℃下分别在真空和N2、H2混合气体两种气氛中退火1 ...
  • 44. Ag-TCNQ薄膜电双稳态特性的XPS研究
    作者： 华中一 孔令柱 张强基 张群 王伟军
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  169-172
    摘要： 本文采用X光电子谱仪(XPS)研究了Ag-TCNQ薄膜的电双稳态特性.对TCNQ粉末、热处理前后的TCNQ薄膜及Ag-TCNQ薄膜作了分析.结果发现,真空蒸镀及大气环境中热处理不会引起TCN...
  • 45. ITO/Al2O3复合透明导电膜的制备及光电性能
    作者： 刘坤 季振国 王超
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  173-175,172
    摘要： 采用磁控溅射技术,在预先沉积有金属Al膜的玻璃衬底上制备了ITO薄膜.通过高温热处理,获得了透射率高、导电性能好的ITO/Al2O3复合透明导电膜.研究了不同Al薄膜厚度下ITO薄膜的晶体结...
  • 46. 无氢类金刚石碳膜的研究进展
    作者： 任妮 马占吉 高欣
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  176-181,186
    摘要： 介绍了无氢类金刚石碳膜的制备方法,它们的机械、光学、电学性能,将无氢与含氢的类金刚石碳膜进行了简单比较,总结及探讨了它们的应用.
  • 47. 低温等离子体对血管内金属支架的表面改性
    作者： 凌一鸣 毛福明 肖梅
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  182-186
    摘要： 生物材料用于人体必须要具备生物相容性.尤其是与血液相接触的材料如血管内支架必须要具备血液相容性.材料的表面特性直接影响血液系统中是否会出现血栓.本文针对金属血管内支架的表面特性、与血液的界面...
  • 48. 钛酸锶钡(BST)薄膜的介电性能机理研究进展
    作者： 李文远 杨传仁 符春林 胡文成 陈宏伟
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  187-194
    摘要： 钛酸锶钡(BST)薄膜是一种重要的铁电薄膜,应用广泛,是高新技术研究的前沿和热点之一.简要介绍BST薄膜的制备方法和应用,重点讨论BST薄膜的极化、电压非线性、漏电流的机理、表征及影响因素,...
  • 49. 脉冲激光沉积NiZn铁氧体薄膜的微观结构和磁性
    作者： 奚小网 陈亚杰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  195-198,211
    摘要： 采用脉冲激光沉积(PLD)技术,分别在单晶硅基片和玻璃基片上沉积了NiZn铁氧体多晶薄膜,薄膜为单相尖晶石结构,在两种基片上都呈现出一定的(400)晶面的择优取向,但在硅基片上择优生长更显著...
  • 50. 射频磁控溅射中离子输运的计算机模拟
    作者： 刘正堂 李阳平 耿东生
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  199-202,207
    摘要： 采用射频辉光放电等离子体壳层模型和蒙特卡罗法,模拟了射频磁控溅射镀膜中工作气体离子(Ar+)的输运过程,得到了离子到达靶面时的入射能量、角度和位置.模拟结果:对靶材溅射的离子主要来自于溅射坑...
  • 51. 四极质谱计灵敏度与离子源参数关系的实验研究
    作者： 冯焱 张建军 张涤新 李得天
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  203-207
    摘要： 本文通过改变QMS422型四极质谱计离子源的发射电流、阴极电压和聚焦电压等参数值,测量了质谱计灵敏度的相应变化,给出并分析了实验结果.实验结果表明,对质谱计离子源参数进行调节,可以优化质谱计...
  • 52. 离子注入聚(2-甲氧基-5-辛氧基)对苯乙炔薄膜的改性研究
    作者： 刘效增 吴洪才 孙建平 郑建邦 韦玮
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  208-211
    摘要： 采用能量为(10～35)keV,剂量为(3.0×1015～4.8×1017)ions/cm2的氮离子(N+)对聚(2-甲氧基-5-辛氧基)对苯乙炔(PMOCOPV)进行离子注入改性.PMOC...
  • 53. 掺Nd纳米ZnO薄膜特性研究
    作者： 李健 赛喜雅勒图 郝丽娟
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  212-215
    摘要： 研究了用真空蒸发法在玻璃衬底上制备稀土掺杂纳米ZnO薄膜结构、导电性及光透射性能.结果显示,在500 ℃氧化、热处理稀土元素Nd掺杂后能够明显改善纳米ZnO薄膜的结构特性,薄膜的晶粒尺寸随掺...
  • 54. 霍尔离子源制备类金刚石薄膜研究
    作者： 孙书龙 杨会生 熊小涛 王燕斌
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  216-218,222
    摘要： 采用霍尔离子源沉积类金刚石薄膜是近年来新出现的一种方法,本文研究了自行研制的霍尔离子源的性能以及采用此离子源制备类金刚石薄膜及工艺参数的影响.结果表明,霍尔离子源在较低的电压即可起辉,可提供...
  • 55. 二代微光成像器件阴极材料放气成份分析
    作者： 徐江涛
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年3期
    页码:  219-222
    摘要： 用四极质谱计对光电阴极碱源材料放气成份进行质谱分析,给出了分析结果,并对所放出有害气体给制备光电阴极带来的影响进行了讨论.
  • 56. n型苝/p型无金属酞菁异质复合多层膜的紫外-可见吸收谱研究
    作者： 向因 季振国 汪茫 王龙成 芮祥新
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年4期
    页码:  223-225
    摘要： 利用真空蒸发技术生长了层厚为纳米数量级的n型导电苝系衍生物(全氟取代苝酰亚胺)/p型导电无金属酞菁异质复合多层膜,并测试了样品的紫外-可见吸收光谱.UV-Vis吸收谱实验结果表明,对应酞菁Q...
  • 57. 基片温度对强流脉冲离子束烧蚀等离子体沉积类金刚石薄膜结构和性能的影响
    作者： 刘振民 梅显秀 马腾才
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年4期
    页码:  226-230,234
    摘要： 利用强流脉冲离子束(High-intensity pulsed ion beam-HIPIB)烧蚀等离子体技术在Si(100)基体上沉积类金刚石(Diamond-like carbon-DL...
  • 58. Si(337)表面的STM研究
    作者： 万维强 侯士敏 刘惟敏 柏亚军 申自勇 薛增泉 赵兴钰
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年4期
    页码:  231-234
    摘要： 利用超高真空扫描隧道显微镜(UHV STM),研究了Si(337)高指数面的形貌和原子结构,发现Si(337)表面平台的生长与退火速度有关,相对较慢的退火速度有利于生长尺寸更大、结构更完整的...
  • 59. 沉积在硅油表面上Au薄膜的电学性能及成膜机理
    作者： 叶全林 叶高翔 夏阿根 杨波 金进生 陶向明
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年4期
    页码:  235-239
    摘要： 采用硅油作基底,沉积出具有网状特征结构的逾渗Au薄膜,用四引线方法原位测量Au薄膜的电学性能,测得其电阻随沉积时间以及凝聚时间的变化规律,较好地解释了此类薄膜的生长机制.对Au薄膜R-I特性...
  • 60. 带有浮动电极的等离子体显示板发光效率数值模拟研究
    作者： 刘纯亮 王建琪
    刊名： 真空科学与技术学报
    发表期刊： 2003年4期
    页码:  240-242,247
    摘要： 针对表面放电AC PDP中一种大放电间隙的情形,采用流体模拟方法,研究浮动电极的宽度、间隙以及浮动电极与显示电极平面之间的介质厚度及其相对介电常数对发光效率的影响,结果发现浮动电极的宽度和间...

真空科学与技术学报基本信息

刊名 真空科学与技术学报 主编 吴锦雷
曾用名 真空科学与技术
主办单位 中国真空学会  主管单位 中国科学技术协会
出版周期 月刊 语种
chi
ISSN 1672-7126 CN 11-5177/TB
邮编 100022 电子邮箱 vst@chinesevacuum.com
电话 010-58206280 网址
地址 北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室

真空科学与技术学报统计分析

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