功率器件硼基区注入工艺研究

• 作者: 曾莉 李杰 税国华
• 来源期刊: 微电子学
• 学科: 工学
• 关键词: 功率器件 离子注入 硼基区 集成电路工艺
• 年，卷（期）: 2007,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 24-27
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.3
• 字数: 3031字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-3365.2007.01.007

摘要

随着功率双极集成电路在军民两用的各种电源管理、功率驱动等领域的广泛应用,以及集成电路生产规模的进一步扩大,对参数一致性、重复性、均匀性的要求越来越高;文章重点介绍功率器件硼基区注入工艺,对工艺原理和工艺方案进行了详细阐述;并给出了工艺结果以及在产品中的应用情况.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	税国华		9	50	3.0	7.0
3	李杰		13	7	2.0	2.0
5	曾莉		3	0	0.0	0.0