IC制造中的ARMA模型分析与动态工艺控制

• 作者: 严利人 刘道广 窦维治 黄伟
• 来源期刊: 微电子学
• 学科: 工学
• 关键词: 半导体工艺 成品率 动态工艺控制 ARMA模型 时间序列预测
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 187-191
• 页数: 5页
• 分类号: TN305
• 字数: 3559字
• 语种: 中文

摘要

提出了动态工艺条件控制的概念,即通过引入自适应算法ARMA,可对集成电路制造工艺效果进行预测,并根据预测结果,对工艺条件加以实时的调整控制,达到改善成品率的目的.采用动态工艺条件控制,打破了几十年来IC制造的固定模式,是IC制造领域具有重大创新性的提法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	严利人	清华大学微电子学研究所	26	81	5.0	8.0
2	刘道广	清华大学微电子学研究所	12	53	4.0	7.0
4	黄伟	清华大学微电子学研究所	28	163	7.0	12.0
5	窦维治	清华大学微电子学研究所	5	4	1.0	1.0